80概述 + 3)几个概念 微米工艺 特征尺寸>1m的工艺 亚微米工艺特征尺寸=1~06m的工艺 深亚微米工艺特征尺寸=06~01pm 纳米工艺 特征尺寸<01pm 目前的主流工艺是035m和025m,最高可达018m,集 成度可达百万门,例如XLNX公司的 FPGA XO40250为250万 等效门,Io数大448脚 PLD改变了传统的数字系统设计方法,极大的减轻了电路设计 和PCD设计的工作量和难度,增强了设计的灵活性和可修改性, 提高了工作效率。 结论:PLD是设计和实现数字系统的理想器件。 国大信 55 重大通信 学院•何伟 3）几个概念 8.0 概述 微米工艺 ——特征尺寸>1μm的工艺 亚微米工艺 ——特征尺寸=1~0.6μm的工艺 深亚微米工艺——特征尺寸=0.6~0.1μm 纳米工艺 ——特征尺寸<0.1μm 目前的主流工艺是0.35μm和0.25μm，最高可达0.18μm，集 成度可达百万门，例如XILINX公司的FPGA XC40250为250万 等效门，IO数大448脚。 PLD改变了传统的数字系统设计方法，极大的减轻了电路设计 和PCD设计的工作量和难度，增强了设计的灵活性和可修改性， 提高了工作效率。 结论：PLD是设计和实现数字系统的理想器件