70 钢院學报 1.高速銅化学成份：0.9-1.0%c,9-100w,1-2%Cr,2-2.6%v,0.8一 0:9%Mo。 2.祥品处理，在1250°℃的避爐中保温10分鐘，用淀子油淬火至无1煙时再放入 140°℃的油中进行的二次淬火，滑除内应力。 8.照相方法：將样品麦面用砂紙輕輕磨擦，除去表面的氧化物，然后用王水擦其 表面使被照面清洁。 ,照相时使样品与x線成35°角，为了使(011)一(1I0)腺强度均勻，在照的过程 中”武样在35°土6°范倒内摆动。 所以染取35°是根据公式tan中=sin20 c02+R讣红出米的，焉氏体(01)-110 線的0角为28°，R为相机的牛征，r为武样距光辋的进光縫的距离。中为入射線与武样 表面所成角度，算出中=3°C~5°C。照相条件与洗相条件每大武验均保持不变。 ·4.刻层方法。 ·1.腐触法，王水（微湿），优点腐蚀快，缺点表面不光亮，有裂牧， ··ii.电解法，H,P0465%,H2S04)256,日2010%，优点表面光亮无裂救，缺 点腐触速度慢。 因此在剝层的过程中先用王水腐蝕，然后电解，並且配下每次剝去的厚度，测量厚 度韺差为士0.005m,武验进行直到剁触深度增加而欲条宽度保特不变时为止。 三、結果 用上远方法求出每一层的(011).一(110)象的%度由不同层的馬氏体(011)一 (110)線度在标准曲额上找出相应的馬氏体舍碳量，：然后再根据宽度与找出的含儆 量作出曲線。 这样就得出在脫硬层中馬氏体含碳量的分布和乾酸层的厚度。实驗結果得出高速網 脱胶层的厚度为0.21士0.05mm。 四、豺論和結論 火家知道可能使馬氏体反射象宽度发生变化的因素計有： 1.馬氏体晶中的畸变（或称微观内应力）的存在， 2.馬氏体晶体内嵌襲块的翻化， 3.馬氏体晶体中化学成分的微观不均匀， 4.馬氏体中含陨量和其他合金元素含量的变化以及， 5.平板武栏播照x光相时的聚，条件。 我們考忠到上逃諾因素，为了消除Ⅱ畸变，嵌塞块，化学成份微说不均匀性可能发 生的影响，故选取(011)一（110)線测最它的凳度的变化，因为这些因素对于小6角 反射線(011)一(110)宽度的影响都是可以忽略不計的，为了消除几何条件对反射绿 党度的影响，朵取了不板武样的聚攝照。实驗証谫：对于同一武样按照聚焦条件与不 按聚焦条件（武样均摆）攝照所得(011)一(110)線的宽度有很大的区别，后扑宽得一 刻 院 祭报 7 0 1 . 高速细化学 成像 0 . 一 9 1 . % 0 c , 9一 1 0 头 , w , 1下 2 % c r , 2 一 2 · 6 % v , 0 · 8一 。哪` M o 『 一二 - -一 - - 一 - - 一一 2 . 样 品处理 , 在 妞印 。 .C 的维谊中保温 10 分兹 , 用淀子 油淬火至 无 自娅时 再 放入 1如 “ C 的 油 中进行 的二次淬火 , 消除内应力 。 3 . 照 相方 法: 牌样品表面 用砂抵视鲤磨擦 , 除去表面 的氧化物 , 然后用王水擦其 表面使被照面 清 洁。 “ . 照相 时使样品与 x 腺成肠 。 角 , 为 了使 ( 0 1 1 ) 一 ( 1 1的 森强 度 均匀 , 在 照的过程 中; 献样在 35 “ 土 o6 范圃内摆动 。 n2 0 所以采取35 “ 是根据公式 t an 中 二 一一竺兰圣i丝望 ~ 汁算 出来的 ~ , 、 . 互、 C O S 艺U 十 —r 、 禺氏体 ( 01 1 ) 一( 1 1 0 腺钓 o 角为2 8 “ , R 为相机的 半视 , r 为款样距 光稍 的进光耀的距离 。 中 为入 射腺 与藏样 表面 所成角 度 , 算 出中 一3 O c 一3 5 “ C 。 照 相条 件与 洗 相 条件每鑫藏麟均保持不变 。 4 . 剥层方 法 。 1 . 腐触法 , 王水 (微温 ) 1 1 。 电解法 , H 3 P O 4 ’65 % , 优 点腐触 快 , 缺点表 面不光亮 , 有裂杖 , H Z S O 4 ) 2 5 % , 月 : 0 10 % , 优 点表面 光亮无裂 叙 , 缺 点 腐触速度 慢 。 因此 在剁 层的过程 中先栩王水腐蚀 , 然后 电解 , 盆且韶下每次刹去的厚 度 , 测 址厚 度改差 为 士 0 . 0 石m n 】, ;武翻进行 应到剥触深 度增 加而旅 条宽度保持不变时为 让 。 三 、 精 果 用上远方法 求 出每一层 的 ( 0 1 1 ) 一 ( 1 1 0乡徐的 霓度 由不伺 层 的踢 氏体 `01 1 ) 一 ( 1 10 ) 腺宽变在标 准 曲腺上找出相 应 的揭氏 体含醚量 , 然后再根 据宽 度与 找 出的含旋 量作 出曲腺 。 这 样就得出 在脱碳层中婚氏 体含破量的分 怖和脱破层 的厚度 。 实 输精果 得出高瘪细 脱硬层 的厚度为 .0 2 1 生 0 . O5 im n 。 四 、 尉防和桔输 天家知道可能使 禹氏 体反 射腺竟度发 生变化 的因素补有 : 俗 ’ 1 . 代 氏 体 晶中的 畸变 (或 称微观 内应 力 ) 的存在 , 2 . 梅氏 体晶 体内嵌镶块的初化 , 8 . 揭玲体 晶体 中化学成 分的微观 不均 匀 , 4 , 揭季体 中含碳量和其他合 金无素含量的变化以 反 , ` 丘 平板藏样摄照 x 光格时 的聚焦 条件 。 一 户 我摺考虑 到上 述 藉因素 , 为 了消除 万畸变 , ` 嵌 妙块 , 化 学成份微尾兑不均匀性可 能发 华的影响 , 故 选取 ( 01 劝 一 ( 1 10 ) 腺测量它 的 寞度 的变化 , 因 为这些 因素对 于小 口 角 辱射很 ( 。 1 1) 一 ( 1 1 0 ) 霓 度的影响都是可以忽略不 升 的 , 为 了浩除 J计寸条件对反射腺 霉度 的影响 , 采取 了 平板 拭样 的聚焦摄照 。 实 肪靓明 : 对 于同 一藏样按 照聚焦条 件与 不 荡聚焦 条件 ( 藏样均摆 ) ’ 摄照所得 ( 01 劝 一 ( 1 1田 徐 的 冤度有很大的 区 别 , 后 者霓得