具有很高硬度，适用于一般材料如淬火合金钢。对硬质合金等极硬材料或需保 留夹杂物的材料，可在抛光盘上涂以由极细钻石粉制成的膏状抛光剂。 抛光试样的磨面应均匀、平正地压在旋转的抛光盘上，并沿盘的半径方向 从中心到边缘作往复移动。压力不宜过大，抛光时间也不宜过长，一般约3~5 分钟。当磨痕全部消除而呈现镜面时，停止抛光。将试祥用水冲洗干净，然后 进行浸蚀。若只需观察夹杂物或石墨形态，则可将试样吹干或擦干，直接放到 显微镜下观察。 (2)电解抛光电解抛光可避免机械抛光时表面层金属的变形或流动，从而 能真实地显示金相组织。该法尤其适用于有色金属及其它硬度低、塑性大的金 属，但不适于偏析严重的金属、铸件及作夹杂物检验的金相试样。电解抛光的 简单装置如图1-14所示 澳度计 授拌 H2O 电流计 释， H:0 电解液 hww 图114电解抛光装置示意图 电解抛光时，把磨光的试样浸入电解液中.接通试样（阳极）与阴极之间的 电源（直流电源）。阴极可采用不锈钢板或铅板，并与试样抛光面保持一定距离 (约300mm)。当电流密度足够大时，试样磨面即产生选择性溶解，靠近阳极的 电解液在试样表面形成一层厚度不均的薄膜。由于薄膜本身具有较大电阻，并 与其厚度成正比，如果试样表面高低不平，则突出部分的薄膜要比凹陷部分的 薄膜薄些，因此突出部分电流密度较大，溶解较快，试样最后形成平整光滑表 面。18 具有很高硬度，适用于一般材料如淬火合金钢。对硬质合金等极硬材料或需保 留夹杂物的材料，可在抛光盘上涂以由极细钻石粉制成的膏状抛光剂。 抛光试样的磨面应均匀、平正地压在旋转的抛光盘上，并沿盘的半径方向 从中心到边缘作往复移动。压力不宜过大，抛光时间也不宜过长，一般约 3～5 分钟。当磨痕全部消除而呈现镜面时，停止抛光。将试祥用水冲洗干净，然后 进行浸蚀。若只需观察夹杂物或石墨形态，则可将试样吹干或擦干，直接放到 显微镜下观察。 (2)电解抛光 电解抛光可避免机械抛光时表面层金属的变形或流动，从而 能真实地显示金相组织。该法尤其适用于有色金属及其它硬度低、塑性大的金 属，但不适于偏析严重的金属、铸件及作夹杂物检验的金相试样。电解抛光的 简单装置如图 1-14 所示。 图 1-14 电解抛光装置示意图 电解抛光时，把磨光的试样浸入电解液中．接通试样(阳极)与阴极之间的 电源(直流电源)。阴极可采用不锈钢板或铅板，并与试样抛光面保持一定距离 (约 300mm)。当电流密度足够大时，试样磨面即产生选择性溶解，靠近阳极的 电解液在试样表面形成一层厚度不均的薄膜。由于薄膜本身具有较大电阻，并 与其厚度成正比，如果试样表面高低不平，则突出部分的薄膜要比凹陷部分的 薄膜薄些，因此突出部分电流密度较大，溶解较快，试样最后形成平整光滑表 面