微细加工技术 2005年 图4加滤波片300μm厚正角(微结构高302pm,图5不加滤波片300μm厚倒角(微结构高323μm, 线宽40μm,在有滤波片光源下曝光420s) 线宽40pm,在有滤波片光源下曝光250s) 图6加滤波片500pm厚垂直微结构 图7加滤波片500m厚垂直微结构 (微结构高526μm,线宽50μm, (微结构高527μm,线宽50μm, 在有滤波片光源下曝光620s) 在有滤波片光源下曝光580s) 其中,们为表面处光强,/为范离高表面:处光 强,a为介质的透光系数。对加或不加滤波 钟未曝光 片的光源分别从SU8胶表面每隔10μm计 算光 算该处的光强,比较不同厚度处SU8胶感 400500 受到的光强。并将加或不加滤波片的透光光 光源不加波片 强分布作图比较,如图8所示 从图8中可以看出,不加滤波片的情况 下,由于405mm波长光的存在,曝光后光 末曝光 源光线在SU8胶中的透光性大大小于曝光 前。上层胶由于曝光阻挡了越来越多的光 则底部的胶随着时间的增加感受到的光强越 来越小,这使得顶部和底部的感光强度相差 很大,造成了它们之间的曝光量也相差很 图8SU-8胶曝光前后透光光强分布图 大,即完全曝光后顶部和底部的光强差为后也有变化,但其引起的顶部和底部的光强 77mW/cm2。而加了滤波片之后,消除了差相对较小,即完全曝光后顶部和底部的光 405nm波长光的影响,尽管365mm波长光强差为2.3mW/m2。图9和图10分别为 的透光系数大于405m波长光,并且曝光前加滤波片和不加滤波片的情况下曝光过量时 万方数据微细加工技术 2005焦 图4加滤波片300,am厚正角(微结构高302,um， 线宽40肚m，在有滤波片光源下曝光420 8) 图6加滤波片500 ttm厚垂直微结构 (微结构高526／xm，线宽50 ttm， 在有滤波片光源下曝光620 s) 由透光公式，=Ioexp(一口戈) (1) 其中：，。为表面处光强，，为距离表面石处光 强，口为介质的透光系数。对加或不加滤波 片的光源分别从su一8胶表面每隔10／．tm计 算该处的光强，比较不同厚度处SU．8胶感 受到的光强。并将加或不加滤波片的透光光 强分布作图比较，如图8所示。 从图8中可以看出，不加滤波片的情况 下，由于405 nm波长光的存在，曝光后光 源光线在SU一8胶中的透光性大大小于曝光 前。上层胶由于曝光阻挡了越来越多的光， 则底部的胶随着时间的增加感受到的光强越 来越小，这使得顶部和底部的感光强度相差 很大，造成了它们之间的曝光量也相差很 大，即完全曝光后顶部和底部的光强差为 7．7 mW／cm20而加了滤波片之后，消除了 405 nm波长光的影响，尽管365 nm波长光 的透光系数大于405 nm波长光，并且曝光前 图5不加滤波片300 p．m厚倒角(微结构高323”m， 线宽40脚，在有滤波片光源下曝光250 s) ．q．---．10 i 8 富6 兽4 婪z O 譬3 ≤2 载 图7加滤波片500 ptm厚垂直微结构 (微结构高527肚m，线宽50,ttm， 在有滤波片光源下曝光580 s) 咯～．． 、1、‰… 、 ～不碍兀 ’～-． ．——’■慨 0 l∞200 30D 400 500 6130 胶厚lima a光源不加滤波片 h光源加滤波片 图8 SU．8胶曝光前后透光光强分布图 后也有变化，但其引起的顶部和底部的光强 差相对较小，即完全曝光后顶部和底部的光 强差为2．3 mW／cm2。图9和图10分别为 加滤波片和不加滤波片的情况下曝光过量时 万方数据