VoL19 No.I 程德别等：CN薄膜的制备和表征 ·101· 2结果与讨论 2.1表面形貌 描电镜分析结果表明，所制备的碳氨膜表面平坦光滑，具有很高的表面光清度，见图」， 2.2XPS研究 根据XPS中C,和N,的积分面积和2种元素的灵敏度因子，可以估算出薄膜中的N/C原 子比x,本实羚所采用的艺条件及测试结果列于表1中.结果表明，薄膜中的N/C之比介于 0.21一0.42之间.与【.艺参数有很大的关系.溅射功率和负偏压的增加会使薄膜中的氮含量 减少 表！薄喷制备条件和薄膜中的N/C比x 试样号作压力Pa偏压V酸射功率w CNI 0.4 -50 310 0.42 CN2 10 50 100 0.38 CN3 0.4 .50 1000 0.33 CN4 0.4 400 1500 0.24 表I中所列试样的XPS测定所得到的 G,和N,主峰如图2所示.从图中可以看出， 随着薄膜中的氨含量增加，C,主饰有向高结 合能方向移动的趋势.这是由于氯原子具有 稳定碳SP键的作用，从而提高碳的内层电 图1C\,薄旗的表面形兢 子结合能. (a1 (b) 2856 2853 399 285.0 CNI 3N CNI 398.9 CN2 CN2 CN3 N4 280282 284286288290 394396398400402404 结合能EfcV 结合能E/eV 围2CN,薄膜的C.峰和N,峰