3.1自下而上的方法 物理方法：物理气相沉积：化学方法：化学气相沉积，化学液相合成，自组装 3.11物理气相沉积 蒸发法，溅射法的原理和设备构造 3.1.2化学气相沉积 化学气相沉积的原理和设备构遮 3.1.3液相合成法 沉淀法，水热法相图，溶胶凝胶法，微乳液法，表面活性剂分子，胶束与反胶束，微 波法，超声法 3.14自组装技术 相互作用力，表面活性剂分子的作用 3.2自上而下的方法 3.2.1物理粉碎法 机械球磨机 3.2.2光刻法 光刻工艺流程，光刻机原理和构造，分辨率，电子束光刻，高子束光刻，光刻胶 3.2.3其他图形化技术 纳米压印技术：热压印，紫外压印，微接触压印：纳米掩膜刻蚀技术，扫描探针纳米 刻蚀技术 3.3自上而下和自下而上相结合的技术 模板诱导自组装，刻蚀辅助LB膜自组装，刻蚀催化图形自组装，纳米掩膜刻蚀 4.教学方法 教师讲授，师生讨论等。 5.教学评价 课后思考、作业习 第五章表征技术 1.教学目标 了解显微的三要素：了解申子与物质相五作用机理了解：堂据光学成像的原理及不同 的成像方式：掌握电 扫描显微镜发展过程和原理 了解电子光学系统发展过程、电子透 射显微镜原理和电子衍射成像原理：了解像差的概念和产生原理：掌握扫描探针显微镜的 发展过程和原理和工作模式：掌握微光扫描共聚焦显微技术：了解几种不同显微技术的优 缺点。 3.1 自下而上的方法 物理方法：物理气相沉积；化学方法：化学气相沉积，化学液相合成，自组装 3.1.1 物理气相沉积 蒸发法，溅射法的原理和设备构造 3.1.2 化学气相沉积 化学气相沉积的原理和设备构造 3.1.3 液相合成法 沉淀法，水热法相图，溶胶凝胶法，微乳液法，表面活性剂分子，胶束与反胶束，微 波法，超声法 3.1.4 自组装技术 相互作用力，表面活性剂分子的作用 3.2 自上而下的方法 3.2.1 物理粉碎法 机械球磨机 3.2.2 光刻法 光刻工艺流程，光刻机原理和构造，分辨率，电子束光刻，离子束光刻，光刻胶 3.2.3 其他图形化技术 纳米压印技术：热压印，紫外压印，微接触压印；纳米掩膜刻蚀技术，扫描探针纳米 刻蚀技术 3.3 自上而下和自下而上相结合的技术 模板诱导自组装，刻蚀辅助 LB 膜自组装，刻蚀催化图形自组装，纳米掩膜刻蚀 4.教学方法 教师讲授，师生讨论等。 5.教学评价 课后思考题、作业习题。 第五章 表征技术 1.教学目标 了解显微的三要素；了解电子与物质相互作用机理了解；掌握光学成像的原理及不同 的成像方式；掌握电子扫描显微镜发展过程和原理；了解电子光学系统发展过程、电子透 射显微镜原理和电子衍射成像原理；了解像差的概念和产生原理；掌握扫描探针显微镜的 发展过程和原理和工作模式；掌握激光扫描共聚焦显微技术；了解几种不同显微技术的优 缺点