磁记录介质:涂布型—薄膜型—垂 直记录型顺序发展。 采用电镀、蒸镀、溅射等方法 磁性材料需要有大的磁各向异性微结构, 需要Co合金膜沿特定方位生长,为此需 要Cr打底层。磁记录介质：涂布型——薄膜型——垂 直记录型顺序发展。 采用电镀、蒸镀、溅射等方法。 磁性材料需要有大的磁各向异性微结构， 需要Co合金膜沿特定方位生长，为此需 要Cr打底层