1. 俄歇电子产额 ▣俄歇电子产额或俄歇跃迁几率 1.0 0.9 俄歌电子产额 决定俄歇谱峰强度，直接关系 0.8 0.7 到元素的定量分析。俄歇电子 与特征X射线是两个互相关联和 03 竞争的发射过程。对同一K层空 带0.2 特征X射钱产颗 穴，退激发过程中荧光X射线与 俄歇电子的相对发射几率，即 图13-1俄歇电子产额与原子序数的关系 荧光产额(Ok)和俄歇电子产额 由图可知，对于K层空穴Z<19,发射俄歇 (ak)满足 电子的几率在90%以上；随Z的增加，X射 K =1-@K (13-1) 线荧光产额增加，而俄歇电子产额下降。 Z<33时，俄歇发射占优势。1．俄歇电子产额  俄歇电子产额或俄歇跃迁几率 决定俄歇谱峰强度，直接关系 到元素的定量分析。俄歇电子 与特征X射线是两个互相关联和 竞争的发射过程。对同一K层空 穴，退激发过程中荧光X射线与 俄歇电子的相对发射几率，即 荧光产额(K)和俄歇电子产额 ( )满足 =1－K (13-1)  K  K 图13-1 俄歇电子产额与原子序数的关系 由图可知，对于K层空穴Z<19，发射俄歇 电子的几率在90％以上；随Z的增加，X射 线荧光产额增加，而俄歇电子产额下降。 Z<33时，俄歇发射占优势