中，第二种工作机理一聃转机理目前最为流行。 为了理论分析上的简化，一般都假设高取向硅钢片压头中心区是片平面为(110)晶 面的理想单晶片，其[100]晶向在轧向上。 文献[2,3]认为，理想单晶片的压头中心区仅仅存在磁化矢量在[100]晶向上的磁 胰，由此基于畴转机理从理论上导出了畴转角与应力6，外磁场H之间的函数关系。按 照这种理论〔3】计算，在H。=20奥，对于0=0°的压头（即压应力沿[100]晶向施加）， 磁化矢量相对于应力轴或[100]晶向的转角B为： 6=0kg/mm2时，B=1.85° 6=10kg/mm2时， 8=2.06° 因此，在He=20奥时，10kg/mm2的压应力仅仅使畴转角改变了△B=0.21°。 根据压头中心区在应力下直流磁化的实测J和J,,按下式计算了两种取向角压头的 平均磁化矢量J与压力轴间的夹角B(图6)： tg(45°-B)=J./J。 表1为实测计算结果。由表可知，压应力为零 表1平均磁化矢量J的方位角B B H. 7奥斯特 14奥斯特 E o(kg/mm2) 0=0° 0=90° 0=0° 0=90° 0 31.94° 57.90° 34.11° 57.10° 3.84 58.63° 73.53° 52.37° 64.22° △B 26.69° 15.63° 18.26° 7.12 时平均磁化矢量J的方位角大大偏离[100]晶向的方位角0。这表明压头中心区并非是单 一的[100]磁畴，而是一种多磁相的混合畴结构。表1的计算结果还表明，仅仅3.84 kg/mm2的压应力就可使卵角发生很大变化：而且对于取向角日=0°的压头，β角可以超过 45°，即超过外磁场H相对于压力轴的方位角。前面也曾指出施加压应力时，压头中心区的J 或中2与外磁场H,或激磁电流I的关系是复杂的，特别是对于第一类压头，由图8(1)，8(3) 和图3(2)可以看出，在一定压应力下，随外磁场H或激磁电流I的增加，J值或中，值由 负值降为零然后又正向增加，这表明随着外磁场H的增加，压头中心区平均磁化矢量J与外 磁场H,的夹角在初期减小到零然后又反向增加。 以上的实验结果和现象不能用畴转机理园满解释。由于铁和铁硅合金的各向异性能很 大，应力对畴转角的影响可以忽略，应力的作用仅仅在于决定出六个可能的磁化方向中那 一个或几个方向最为有利[5]。因此，根据以上实验结果和现象，我们认为取向硅钢片压 头的工作机理主要是壁移过程，即应力影响了可能存在的磁相种类和浓度，从而影响了压 头中心区宏观的平均磁化矢量J的大小和方向。 87中 ， 第二 种工作机理 －畴转机理 目前最为流行 。 为了理 论分析上的简化 ， 一般都假设 高取向硅钢片压头 中心 区是片平面为 晶 面的理想单晶片 ， 其 〔 」晶 向在轧 向上 。 文献 、 〕 认为 ， 理想单晶片的压头中心 区仅仅存在磁化矢量在 〔 〕 晶向上 的 磁 畴 ， 由此基于 畴转机理 从理论 上导 出了 畴转角与应 力 ， 外磁场 之 间的函数关 系 。 按 照这种理论 〕 计算 ， 在 。 奥 ， 对于 。 的压 头 即压应力沿 〔 〕 晶向施加 ， 磁化矢量相对于应 力轴或 〔 们 晶 向的转角日为 时 ， 日 忿时 ， 日 因此 ， 在 奥时 ， “ 的压应 力仅仅使畴转角改变了△日二 。 。 根 据压头 中心 区在应 力下 直流磁化 的实测 。 和 ， ， 按下式计算了两 种取向 角 压 头的 平均磁化 矢量 与 压 力 轴间的夹角日 图 。 一 日 。 。 表 为实测计算结果 。 由表可知 ， 压应 力为零 表 平均磁化矢且 的方位角日 ” “ 。 二 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 。 “ 。 。 。 。 △日 。 。 一 。 。 “ 时平均磁化矢量 的方位角日大大偏离 〔 〕 晶向的方位角 。 这表明压头 中心 区 并非是单 一 的 〔 。 。 〕 磁 畴 ， 而是一 种多磁相的混合畴结构 。 表 的 计 算结果还表 明 ， 仅 仅 艺 的压应 力就可 使日角发生很大变化， 而 且对于取向角 二 “ 的压头 ， 日角可 以超过 刁 。 ， 即超过外磁场 。 相对 于压力轴的方位 角 。 前面也 曾指出施加压应 力时 ， 压 头 中心 区 的 。 或中 与外磁场 。 或 激磁 电流 的关系 是复杂的 特别是对于第一类 压 头 ， 由图 ， 和 图 可 以看出 ， 在一定压应 力下 ， 随外磁场 或激磁 电流 的增加 ， ， 值或中 值由 负值降为零然后又正 向增加 ， 这 表 明随着外磁场 的增加 ， 压 头 中心 区平均磁化矢量 与 外 磁场 。 的夹角在初期减小到零然后 又 反 向增加 。 以上的实验结果 和现 象不能用畴转机理 园满解释 。 由于铁和铁硅合金的各 向异性能很 大 ， 应力对 畴转角的影响可 以忽略 ， 应力 的作用仅仅在于决定 出六个可能的磁化方 向中那 一个或几个方 向最为有利 〔 〕 。 因此 ， 根据以 上实验结果和现 象 ， 我们认为取向硅钢片压 头 的工作机理 主要是壁移过程 ， 即应力影响了可能存在的磁相种类和浓度 ， 从而影 响了压 头中心区宏观的平均磁化矢量 的大小和方向 。 诊