例题12-11 在半导体元件生产中，为了测定硅片 上Si02薄膜的厚度，将该膜的一端腐蚀成劈尖状， 已知Si02的折射率n=1.46,用波长元=589.3nm的 钠光照射后，观察到劈尖上出现9条暗纹，且第9条 在劈尖斜坡上端点M处，Si的折射率为3.42。试求 Si02薄膜的厚度。 解：由暗纹条件 M SiO, δ=2ne =(2k+1) (k=0,1,2,.) Si 知，第9条暗纹对应于=8，代入上式得 e=(2k+1)2/4n=1.72μm 所以Si0,薄膜的厚度为1.72μm。 让元子文返回退此上页 下页 返回 退出 例题12-11 在半导体元件生产中，为了测定硅片 上SiO2薄膜的厚度，将该膜的一端腐蚀成劈尖状， 已知SiO2 的折射率n =1.46，用波长 =589.3 nm的 钠光照射后，观察到劈尖上出现9条暗纹，且第9条 在劈尖斜坡上端点M处，Si的折射率为3.42。试求 SiO2薄膜的厚度。 Si SiO2 O 解：由暗纹条件 M 知,第9条暗纹对应于k=8,代入上式得 所以SiO2薄膜的厚度为1.72 m。  = 2ne (2 1) ( 0 1 2 ) 2 k k  = + = ， e k n = + = (2 1) 4 1.72  μm