第七章气相沉积技术 ③ S&三 CH口口L口 F MATER1 ALS SCIENGE& ENGINEERING 72化学气相沉积(CⅴD) 化学气相沉积是利用气态物质在固体表面发生化 矿学反应,生成固态沉积物的过程。化学气相沉积的 业过程可以在常压下进行,也可以在低压下进行 米CVD技术是当前获得固态薄膜的方法之一。与物理 材气相沉积不同的是:沉积粒子来源于化合物的气相 科 科 分解反应 学在相当高的温度下,混合气体与基体的表面相互 弓作用,使混合气体中的某些成分分解,并在基体上 程 形成一种金属或化合物的固态薄膜或镀层。 学 况1 7.2化学气相沉积（CVD） 化学气相沉积是利用气态物质在固体表面发生化 学反应，生成固态沉积物的过程。化学气相沉积的 过程可以在常压下进行，也可以在低压下进行。 CVD技术是当前获得固态薄膜的方法之一。与物理 气相沉积不同的是：沉积粒子来源于化合物的气相 分解反应。 在相当高的温度下，混合气体与基体的表面相互 作用，使混合气体中的某些成分分解，并在基体上 形成一种金属或化合物的固态薄膜或镀层。 第七章 气相沉积技术