工艺步骤 目的 掩膜版/图形 对准和曝光掩膜版和图形在晶圆上的 精确对准和光刻胶的曝光。 光刻胶 正胶被光溶解 氧化层 晶圆 显影 去除非聚合光刻胶 111 光刻胶 晶圆 氧化层 刻蚀 表层去除 晶圆 光刻胶去除光刻胶去除 晶圆工艺步骤 目的 对准和曝光 掩膜版和图形在晶圆上的 精确对准和光刻胶的曝光。 正胶被光溶解 掩膜版 图形 / 晶圆 晶圆 晶圆 晶圆 光刻胶 氧化层 光刻胶 氧化层 显影 去除非聚合光刻胶 刻蚀 表层去除 光刻胶去除 光刻胶去除