第5章金属氧化物薄膜晶体管 简介 5.11GZO金属氧化物半导体的物理基础 5.2IGZO-TFT的工作原理与特性 5.3金属氧化物TFT中的关键材料 5.4金属氧化物半导体薄膜的制备工艺 5.5金属氧化物TFT结构、制造工艺与性能 5.6金属氧化物TFT的稳定性第5章 金属氧化物薄膜晶体管 简介 5.1 IGZO金属氧化物半导体的物理基础 5.2 IGZO-TFT的工作原理与特性 5.3 金属氧化物 TFT 中的关键材料 5.4 金属氧化物半导体薄膜的制备工艺 5.5 金属氧化物TFT 结构、制造工艺与性能 5.6 金属氧化物TFT的稳定性