(二)芳卤化合物的制法 (1)直接卤化 C C 少CHc-Br(CHCH3(溴代选择性大于氯代) Br Ch_2 CHCH3+ CH2CH2CI C 56% 44% 亲电取代时,X-上苯环;自由基取代时,X-上侧链a-位。(二) 芳卤化合物的制法 (1) 直接卤化 CH3 Cl CH3 C l2 Fe, + Cl CH3 CH3 CH2 Cl C l2 h CH2 CH3 B r2 h CHCH3 Br (溴代选择性大于氯代) CH2 CH3 CH2 CH2 Cl C l2 h CHCH3 Cl + 56% 44% 亲电取代时，X-上苯环；自由基取代时，X-上侧链α–位