Vol.23 No.4 林海等：攻性煤系饭烧高岭土晶化培烧产品分析测试 303- 图5和图6分别为最终产品核、膜的透射电 镜电子衍射图；图7和图8为与之对应的能谱 Si 2229老23 Ti 图2最终产品的SEM能谱分析图 Fig.2 Energy spectrum of the product by SEM 焙烧后，基体表面钛分布均匀，这是由于基体表 图5核的远射电镜电子衍射照片 面包覆的水合二氧化钛脱水结晶以及晶粒长大 Fig.5 Electronic difTraction photo of the basal body by 所致.同时从能谱分析图可知，与未焙烧改性产 TEM 品相比网，基体表面已不存在S元素，说明晶化 焙烧过程脱除有害杂质S很完全， 2.2TEM分析 图3为最终产品的透射电镜照片，图4为基 体与膜界面局布放大照片.可以明显地看出，改 性产品晶化焙烧后，在基体颗粒表面包覆的均 匀、致密的二氧化钛膜与基体之间结合紧密，膜 的厚度为150nm. 图6膜的透射电镜电子衍射照片 Fig.6 Electronic diffraction photo of the coating film by TEM 250nm 图3最终产品的透射电镜照片 Fig.3 TEM of the product 图7核的透射电镜能谱分析留 Fig.7 Energy spectrum of the basal body by TEM Ti 100nm 图4基体与膜界面局部放大照片 Fig.4 TEM of the boundary between the basal body and 图8膜的透射电镜能谱分析图 coating film Fig.8 Energy spectrum of the coating film by TEM