温度-沉积速率对薄膜形核率的影响 ■薄膜沉积速率R,衬底温度T是影响薄膜沉积 过程和薄膜组织的两个最重要的因素。 物质沉积通量J,或气相压力p上升时,△G*将 降低,而n*将迅速增加,即形核率增加 温度对n*的影响则具有两面性: ◆温度提高会提高新相的平衡蒸气压p、,导致AG*增加 吸附原子脱附几率提高,两者均使得n*降低;温度降 低则可获得高的形核率 但某些情况下,动力学因素又起着关键的作用。低温 时化学反应的速度下降,造成薄膜形核率反而降低◼ 薄膜沉积速率R，衬底温度T是影响薄膜沉积 过程和薄膜组织的两个最重要的因素。 ◼ 物质沉积通量J，或气相压力p上升时，G*将 降低，而n*将迅速增加，即形核率增加 温度-沉积速率对薄膜形核率的影响 ◼ 温度对n*的影响则具有两面性： ◆ 温度提高会提高新相的平衡蒸气压pv，导致G*增加， 吸附原子脱附几率提高，两者均使得n*降低；温度降 低则可获得高的形核率 ◆ 但某些情况下，动力学因素又起着关键的作用。低温 时化学反应的速度下降，造成薄膜形核率反而降低