·736· 工程科学学报，第39卷，第5期 大量形核并快速长大，在时域分析折线图上出现峰值： 浓度为0.05mol·L时，前期浓度过高，双电极表面同 随后，由于亚稳态点蚀被修复，敏感形核部位减少，同 时活化，由于点蚀的形核速率很高，导致纵深生长无法 时溶液中游离的C1~减少，C1~浓聚到临界浓度来促进 继续进行而被修复，故积分电量基本不变：随后由于溶 点蚀生长的过程越来越难，使得形核速率和积分电量 液中游离的Cˉ浓度达到促进点蚀快速长大的临界 又逐渐降低.当Cl~浓度继续增加至0.05molL时， 值，故积分电量显著上升：最后由于形核速率的波动， 由于浓度较高，初期电极一经浸入，便迅速活化，缺陷 积分电量也随之变化.图9所示为浸泡24h后所得的 位置发生剧烈腐蚀，故形核速率很高：随后由于表面缺腐蚀形貌，由此图可知，总体上，随C1~浓度的增加，形 陷发生腐蚀后会出现自钝化，有些缺陷位置不能继续 核速率逐渐增加，而点蚀尺寸先增加后减小，这与图8 发生深入的腐蚀，导致形核速率减小：最后由于均匀腐 所示结果正好吻合. 蚀增强曝露出更多的缺陷，以及溶液中游离C1ˉ的变2.3点蚀扫描电镜分析及真实形貌应力分布模拟 化，两者综合作用使形核速率发生小范围的波动，总体 模拟试样在含C1~溶液中浸泡48h后，其表面清 还是逐渐减小的.促进点蚀快速生长需要适当的C” 晰可见由腐蚀产物覆盖的蚀点，对蚀点处进行扫描 浓度，浓度过高和过低均不利于点蚀生长).当C1 电镜观测，得到图10(a)、(c)和(e)所示的不同Cl 等效应力MPa 回 类型：iss等效应力 71×105im 0.004 mm 0.002 (c) 等效应力MPa (d) 类型：Mises等效应力 交互应力场 0 0.015 e 等效应力Pa 类型：Mises等效应力 00056904Mim 交互应力场 0.10 -h如二 0.05 图10不同C1~浓度溶液中点蚀扫描电镜形貌及水平拉应力作用下真实点蚀坑附近的应力分布.(a),(b)0.01mlL';(c),(d)0.03 mol-L-!;(e),(f)0.05 mol-L-1 Fig.10 SEM images of pits induced by different Cl"concentrations and stress distributions near real pits under horizontal tensile stress:(a),(b) 0.01molL1:(c),(d)0.03molL-l;(e),(f)0.05mal-L1工程科学学报,第 39 卷,第 5 期 大量形核并快速长大,在时域分析折线图上出现峰值; 随后,由于亚稳态点蚀被修复,敏感形核部位减少,同 时溶液中游离的 Cl - 减少,Cl - 浓聚到临界浓度来促进 点蚀生长的过程越来越难,使得形核速率和积分电量 图 10 不同 Cl - 浓度溶液中点蚀扫描电镜形貌及水平拉应力作用下真实点蚀坑附近的应力分布. (a),(b) 0郾 01 mol·L - 1 ; (c), ( d) 0郾 03 mol·L - 1 ; (e), (f) 0郾 05 mol·L - 1 Fig. 10 SEM images of pits induced by different Cl - concentrations and stress distributions near real pits under horizontal tensile stress: (a), (b) 0郾 01 mol·L - 1 ; (c), (d) 0郾 03 mol·L - 1 ; (e), (f) 0郾 05 mol·L - 1 又逐渐降低. 当 Cl - 浓度继续增加至 0郾 05 mol·L - 1时, 由于浓度较高,初期电极一经浸入,便迅速活化,缺陷 位置发生剧烈腐蚀,故形核速率很高;随后由于表面缺 陷发生腐蚀后会出现自钝化,有些缺陷位置不能继续 发生深入的腐蚀,导致形核速率减小;最后由于均匀腐 蚀增强曝露出更多的缺陷,以及溶液中游离 Cl - 的变 化,两者综合作用使形核速率发生小范围的波动,总体 还是逐渐减小的. 促进点蚀快速生长需要适当的 Cl - 浓度,浓度过高和过低均不利于点蚀生长[14] . 当 Cl - 浓度为 0郾 05 mol·L - 1时,前期浓度过高,双电极表面同 时活化,由于点蚀的形核速率很高,导致纵深生长无法 继续进行而被修复,故积分电量基本不变;随后由于溶 液中游离的 Cl - 浓度达到促进点蚀快速长大的临界 值,故积分电量显著上升;最后由于形核速率的波动, 积分电量也随之变化. 图 9 所示为浸泡 24 h 后所得的 腐蚀形貌,由此图可知,总体上,随 Cl - 浓度的增加,形 核速率逐渐增加,而点蚀尺寸先增加后减小,这与图 8 所示结果正好吻合. 2郾 3 点蚀扫描电镜分析及真实形貌应力分布模拟 模拟试样在含 Cl - 溶液中浸泡 48 h 后,其表面清 晰可见由腐蚀产物覆盖的蚀点,对蚀点处进行扫描 电镜观测,得到图 10( a) 、( c) 和( e) 所示的不同 Cl - ·736·