上游充通大率 试样抛光 SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY 将镶好的六个样品固定，并要保持底面在同一个水平面上。 放入实验仪器内，选择“AIS系”进入自动研磨抛光状态。 磨光：首先试样先在一号研磨盘（金刚石，300目)上粗磨，研磨一段时间， 用超声波洗干净；然后再用二号研磨盘(CS引，600目)上细磨，研磨一段 时间，用超声波洗干净；这样磨光步骤完成。 将磨光好的样品继续用三号抛光盘(9μ的抛光液)进行粗抛，抛光一段时 间，用超声波将剩余的抛光液清洗干净；然后用四号抛光盘（3μ的抛光液) 抛光，抛光一段时间，用超声波将剩余的抛光液清洗干净；最后用五号抛光 盘（0.5μ的抛光液)细抛，抛光一段时间，用超声波将剩余的抛光液清洗干 净。 将固定好的样品取下，可以看到有高反光率的表面，则说明样品制备完成， 备用。试样抛光 将镶好的六个样品固定，并要保持底面在同一个水平面上。 放入实验仪器内，选择“AlSi系”进入自动研磨抛光状态。 磨光：首先试样先在一号研磨盘（金刚石，300目）上粗磨，研磨一段时间， 用超声波洗干净；然后再用二号研磨盘（CSi，600目）上细磨，研磨一段 时间，用超声波洗干净；这样磨光步骤完成。 将磨光好的样品继续用三号抛光盘（9μ的抛光液）进行粗抛，抛光一段时 间，用超声波将剩余的抛光液清洗干净；然后用四号抛光盘（3μ的抛光液） 抛光，抛光一段时间，用超声波将剩余的抛光液清洗干净；最后用五号抛光 盘（0.5μ的抛光液）细抛，抛光一段时间，用超声波将剩余的抛光液清洗干 净。 将固定好的样品取下，可以看到有高反光率的表面，则说明样品制备完成， 备用