714 北京科 技大学学报 2005年第6期 16oo1间 1220b 1200 1200 1180 R1=R2=0 兰 800 ◆一各向同性 关110 一■一各向异性 1140 Z=0.27 400 1120 ◆一各向同性 ■了 ■一各向异性 1100 0.5 1.0 1.5 0.5 1.0 1.5 1480 0.40 (c) 0,35 (d) 1460 1440 1420 Z=0.47 Z=0.47 1400 020 一◆一各向同性 ◆一各向同性 1380 ■一各向异性 1360 量一各向异性 蓝0.05 1340 0 0 0.5 1.0 0 0.5 1.0 1.5 R 图6各向异性散射对温度、氨化硅质量浓度影响 Fig.6 Anisotropic scattering influencing on the temperature field and the mass density of Si,N. 1270 1800 (a) (b) 1260 1600 1250 1400 1240 1200 1230 2=0.27 兰1wm Z=0.47 800 1220 —◆一0=0.5 600 ◆—0=0.5 1210 一量一=0.7 400 量一w=0.7 1200 200 119 0 0 05 1.0 1.5 0.5 1.0 1600 (c) 0.6d 1400 1200 1000 R1=R2=0 Soo R1=R,=0 坐 0.3 ◆0=0.5 600 ◆—0=0.5 ■—0=0.7 400 -量一w=0.7 200 0 0.5 1.0 15 0.5 1.0 1.5 图7辐射特性对温度、氨化硅质量浓度影响 Flg.7 Radlation property Influencing on the temperature field and the mass density of Si,N. 4结论 结果影响很大，尤其对预热段影响较大.为确保 反应充分，需控制好进口体积流量，使得介质在 (1)模拟计算值与实验值误差在10%之内. 预热段得到充分预热. (2)氮气体积流量即进口速度的不同，对计算 (3)在高温段入口处，由于流场受到扰动，温一 北 京 科 技 大 学 学 报 年 第 期 二 园、从 今一 各 向同性 一刁 一 各 向异性 园、从 ，，，且，二 ，一，乙，立直 己，乙目八匆 一叫少 一 各向同性 一」 卜一 各 向异性 二 州卜一 各 向同性 刁卜 各向异性 二 一令 各向同性 门卜 各向异性 一尸工 牟埔爱喇妈御︾侧价浏日‘ 、﹄园 凡 图 ‘ 各 向异性散射对温 度 、 氮 化硅质 浓度影响 啥 血。 加 加 比 伍 ， 礼 吕、 刊卜 切 二 」 。 仓 、园从 一今冲 功 二 欣 门 口 一口︸曰一目户，、一 盛、卜 ︸气 二 凡 巴 ， 今一 田 卜 臼 园 。 、卜 曰 月卜一 门卜 山 。 。 。 ‘ ’ 网 甲” · ” 署 。 铡 锐 卜 叫 唱 卜 似 尽 。 ，卜 骊 一 ’ 八 图 ， 辐 射特性对温度 、 氮化硅质皿浓 度影 响 如 功 碑 卜 加 ， 结 论 模拟 计 算值 与实验 值误 差 在 之 内 氮气 体积流量 即进 口 速度 的不 同 ， 对 计算 结 果影 响 很 大 ， 尤 其对 预 热 段影 响 较 大 ， 为 确 保 反 应充 分 ， 需控 制 好进 口 体积 流 量 ， 使 得 介 质 在 预 热段 得 到 充分预 热 ， 在 高温 段 入 口 处 ， 由于流 场 受 到扰 动 ， 温