Schmidt“障碍” 电注入的问题在那里? “从铁磁金属直接发射电子到半导体中 “这种自旋注入方式,面临一个基本障碍。 那就是这两种材料之间的电导失配。 J=oe, 0=n(eetSchmidt “障碍” 电注入的问题在那里？ “从铁磁金属直接发射电子到半导体中” 。 “这种自旋注入方式，面临一个基本障碍。 那就是这两种材料之间的电导失配。”  ,  ( ) 2 n EF m e J = E =