X射线与物质的交互作用 O TONG =1.24/0 =K2(Z-o) Kax或入Ka<入K 4m≈K4Z3 F(滤波片) o.ol d'oai立 μm 热 10 吸收衬度成像 ASWL 入0 透射X射线I=loe-“mP1,A=0 C 「A=0,相干散射 散射X射线 RD分析 '>0 反冲电子 不相干散射 Ka>2K2入KB 电子{ 俄歇电子 成分分析光电子 l连续谱=aiZU 光电效应 俄歇效应 I特征=AiU-Ux 荧光X射线K。>A0 4 4 A(A) A(A) School of Materials Science and Engineering材料科学与工程学院 School of Materials Science and Engineering 成分分析 XRD分析 吸收衬度成像 K >K> K K >K或K <<K 0  1.24 U I连续谱= α i Z U2   R I 特征  A i U  U K ( ) 1 2    K Z  3 3  m  K4  Z X射线与物质的交互作用