真空镀膜 本实验的目的是了解真空系统的构成、真空的获得和真空度的测量,并 通过真空镀膜的实际操作学习真空系统的一种简单的应用。实验设备是一台多 功能薄膜制备系统,主要包括装有蒸镀源和样品台的玻璃罩真空室,抽气用的 呙轮分子泵和机械泵,测量真空用的热偶真空计和冷阴极电离真空计。系统的 真空度可达103Pa,可由蒸镀源的不同配置分别实现热蒸发和离子溅射的两种 方法镀膜。另外,还配置有6JA型干涉显微镜用于薄膜厚度的测量。 混合物理化学气相沉积法(HPcD)制备MgB2薄膜 MgB薄膜制备中 制备设备全景