作业习 第八章光波调制 第八章光波调制 1、什么是光辐射的调制？根据被调制的载波参数不同，分别有什么调制方式？ 2、什么是“外调制”、“内调制”？ 3、晶体的主轴坐标系如何定义？ 4、“电光效应”、“线性电光效应”和“非线性电光效应”如何定义？ 5、在利用电光效应的过程中，加电场的方式通常有哪两种方式？给出其具体的 概念。 6、KDP晶体沿Z轴引入电场后，主轴坐标系的偏转角数值是否和电场强弱有 关？其折射率改变量大小是否和电场强度数值有关？ 7、在LNbO3品体主轴坐标系中沿x方向引入电场E,在原主轴坐标系中写出引 入电场后的折射率椭球方程。引入电场后其主轴坐标系方向是否发生改变？ 8、(1)在KDP品体的纵向电光效应中，晶体的半波电压如何定义？半波电压 由晶体的哪些参数决定？ (3)在选择晶体制作电光强度调制器时，是选择V,数值大的材料好，还是 选择V数值小的材料好？为什么？ 9、(1)画出利用KDP晶体一次电光效应的纵向电光强度调制器的装置图，说 明各器件的作用。 (2)说明调制器的工作原理。 (3)为实现线性调制，常用的方法有哪两种？ (4)若在KDP晶体上加调制电压U=U.sinm,U在线性区内，写出强 度调制后输出光强的表达式。 10、电光强度调制器的“消光比”如何定义？ 11、纵向电光调制和横向电光调制相比，主要区别有哪些？ 12、画出利用KDP晶体实现电光相位调制的装置图，并说明其工作原理。 13、(1)简述‘拉曼-纳斯衍射’和‘布喇格衍射’的发生条件、衍射过程及衍 射光特点。 (2)为实现“声光强度调制”，利用哪种声光衍射效应较为理想？ (3)画出声光强度调制器的结构图，说明其工作原理。 (4)在布喇格衍射过程中，声光衍射效率如何定义？ 14、考虑熔融石英中的声光布喇格衍射，若取=0.6328m、n=146、 1作业习题 第八章 光波调制 第八章 光波调制 1、什么是光辐射的调制？根据被调制的载波参数不同，分别有什么调制方式？ 2、什么是“外调制”、“内调制”？ 3、晶体的主轴坐标系如何定义？ 4、“电光效应”、“线性电光效应”和“非线性电光效应”如何定义？ 5、在利用电光效应的过程中，加电场的方式通常有哪两种方式？给出其具体的 概念。 6、KDP 晶体沿 Z 轴引入电场后，主轴坐标系的偏转角数值是否和电场强弱有 关？其折射率改变量大小是否和电场强度数值有关？ 7、在LiNbO3晶体主轴坐标系中沿x方向引入电场 ，在原主轴坐标系中写出引 入电场后的折射率椭球方程。引入电场后其主轴坐标系方向是否发生改变？ Ex 8、（1）在 KDP 晶体的纵向电光效应中，晶体的半波电压如何定义？半波电压 由晶体的哪些参数决定？ （3）在选择晶体制作电光强度调制器时，是选择 数值大的材料好，还是 选择 数值小的材料好？为什么？ Vπ Vπ 9、 （1）画出利用 KDP 晶体一次电光效应的纵向电光强度调制器的装置图，说 明各器件的作用。 （2） 说明调制器的工作原理。 （3） 为实现线性调制，常用的方法有哪两种？ （4） 若在 KDP 晶体上加调制电压U U t = m sinω ，U 在线性区内，写出强 度调制后输出光强的表达式。 10、电光强度调制器的“消光比”如何定义？ 11、纵向电光调制和横向电光调制相比，主要区别有哪些？ 12、画出利用 KDP 晶体实现电光相位调制的装置图，并说明其工作原理。 13、（1）简述‘拉曼-纳斯衍射’和‘布喇格衍射’的发生条件、衍射过程及衍 射光特点。 （2）为实现“声光强度调制”，利用哪种声光衍射效应较为理想？ （3）画出声光强度调制器的结构图，说明其工作原理。 （4）在布喇格衍射过程中，声光衍射效率如何定义？ 14、考虑熔融石英中的声光布喇格衍射，若取 λ0 = 0.6328µm 、 n = 1.46 、 1