在仕内移动过程中有这种阻力存在，而恢峪形加宽，并且随着载气流速的增加，这个影响也 增大。 Pi/Po-1.1 15 柱于人口 出 45柱内截气线速度的变化 (以相对干出日的线邀度U,值表示) 由此可得出结论，使峰形加宽的原因可归纳为：①祸流打扩散：②分子扩散，③传质阻力 三种情况所造成。 柱效率由于在气相中的扩散作用比液相中大，据此可假定传质阻力的影响只在液 相中存在，故an Deemter等人创立的关于气一披色谱理论塔板高度(HETP)基本公式为： H=2d,++8kd (4.11) uπ2(1+k)2D 式中：H一一理论塔板高度(HEP): 一柱填料特有的量： d,一一柱填料颗粒的平均直径： 一气体通过细长弯曲路径时的校正系数： -组分分子在气相中的扩散系数： 一组分分子在液相中的扩散系数 一载气的线速度 k- -K(F/F): K为分配系数，F/F:为柱横截面上液相和气相占有的面积比： d一一担体上固定液的有效厚度。 式(4.11)可以改写为下式： H=4什B+C (4.12) A=27.dp B=YD: C= 8 k'd2 2(+kD 这个公式如图46所示是双曲线，在=√B/C时，H存在极小值，其值Hn=A+ 2√BC也就是说在=√B/C时，柱效最好。然而，如前所述，色谱柱内载气的线速度在仕内移动过程中有这种阻力存在，而恢峪形加宽，并且随着载气流速的增加，这个影响也 增大。 由此可得出结论，使峰形加宽的原因可归纳为；①涡流扩散；②分子扩散，③传质阻力 三种情况所造成。 2．柱效率 由于在气相中的扩散作用比液相中大，据此可假定传质阻力的影响只在液 相中存在，故 Van Deemter 等人创立的关于气—掖色谱理论塔板高度(HETP)基本公式为： ( ) ’ 2 2 2 ’ 1 8 2 1 g f p D d k H d u u D k    ＝ ＋ ＋ ＋ (4.11) 式中：H——理论塔板高度(HETP)； λ——柱填料特有的量； dp——柱填料颗粒的平均直径； γ——气体通过细长弯曲路径时的校正系数； Dg——组分分子在气相中的扩散系数； Dl——组分分子在液相中的扩散系数； u——载气的线速度； k’——K(Fl／Fg)； K 为分配系数，Fl／Fg为柱横截面上液相和气相占有的面积比； df——担体上固定液的有效厚度。 式(4.11)可以改写为下式： u B H A C u ＝ ＋ ＋ (4.12) A＝2λdp B＝γDg ( ) 2 2 2 1 8 ' 1 ' f k d C  k D ＝ ＋ 这个公式如图 4—6 所示是双曲线，在 u B C ＝ 时，H 存在极小值，其值 Hm/n＝A＋ 2 BC 也就是说在 u B C ＝ 时，柱效最好。然而，如前所述，色谱柱内载气的线速度