CN104934303A 说明书 2/2页 光刻技术，用于形成平面的图形，并为多层胶的显影提供基础。 [0008] 本发明与现有技术相比较的效果是：本发明结合多层胶技术与电子束光刻技术， 制备过程中不需要生物模板，并且能够控制每层胶的旋涂厚度，实现对纵向树枝状周期和 占空比的精确控制，制备工艺简单，能得到不同结构参数的蝴蝶磷翅仿生微纳结构。 附图说明 [0009] 图1-图7是蝴蝶磷翅仿生微纳结构制备工艺流程图示。 [0010] 图8为图1~图7中图形对应编号的图示。 [0011] 图中标号：1为Si衬底，2为PMA,3为LOR。 具体实施方式 [0012]下面结合附图和具体实施例对本发明做进一步说明。凡是对实例中的工艺参数进 行了简单的改变，都属于本发明保护范围之内。 [0013]实施例仿蝴蝶磷翅表面微纳结构的制备。 [0014]制备仿蝴蝶磷翅表面的多层树状微纳结构的工艺流程如图1。洁净的Si基底表 面旋涂一层黏附剂HMDS,再以一定转速旋涂上PMMA层，烘胶后，继续旋涂LOR层并再次烘 胶，两种胶的厚度按照设计的要求决定。按照同样的过程重复旋涂这两种光刻胶层若干个 周期，最后旋涂一层PMMA层，对得到的样品进行电子束曝光。曝光后，用PMMA显影液和LOR 显影液对多层胶进行交替显影，溶解掉被曝光的PMMA和间隔层LOR,直到最后一层LO被显 影。最终就得到了仿蝴蝶磷翅表面微纳结构。具体工艺步骤说明如下： (1)准备洁净的Si基片： (2)在Si基底上以4000rpm转速旋涂HMDS; (3)以2500rpm转速旋涂浓度为2.5%PMMA-350K溶液，放入180℃烘箱烘胶1h,得 到厚度为80nm的PMMA层； (4)以3000rpm转速旋涂L0R-1A溶液，放入180℃烘箱烘胶20min,得到厚度为120 nm的LOR层； (5)重复步骤(3)、(4)4个周期： (6)以2500rpm转速旋涂浓度为2.5%PMMA-350K溶液，放入180℃烘箱烘胶1h; (7)对样品进行电子束曝光，曝光图形为光栅线条或方块阵列； (8)用四基二戊酮(MIBK)的异丙醇(IPA)溶液作为PMMA的显影液，在23℃下对最上 层的PMMA显影1min,用IPA漂洗Imin; (9)用50%CD-26溶液作为L0R层显影液，在23摄氏度下对L0R层显影1min,用去离 子水漂洗1min; (10)重复步骤(8)、(9)3个周期，再对最底层PMMA显影一次，得到仿蝴蝶磷翅表面微 纳结构。 4