Process Control Instrumentation Technology 被控过程数学模型的几个参数 ◆滞后时间τ: ◆是纯滞后时间τ和容量滞后τc的总和。 ◆纯滞后的产生一般是由于介质的输送或热的传递 需要一段时间引起的。 ◆容量滞后一般是因为物料或能量的传递需要通过 定的阻力而引起的。 ◆滞后时间τ是反映对象动态特性的另一个 重要参数Process Control & Instrumentation Technology 被控过程数学模型的几个参数 ⧫滞后时间τ： ⧫是纯滞后时间τ0和容量滞后τC的总和。 ⧫纯滞后的产生一般是由于介质的输送或热的传递 需要一段时间引起的。 ⧫容量滞后一般是因为物料或能量的传递需要通过 一定的阻力而引起的。 ⧫滞后时间τ是反映对象动态特性的另一个 重要参数