设备和器具 GMP要求设备“光洁、平稳、易清洗或消 毒、耐腐蚀,不与药品发生化学反应或吸 附药品”,并按工艺硫程顺序布置防止差 错和减少访杀。二、设备和器具 ◼ GMP要求设备“光洁、平稳、易清洗或消 毒、耐腐蚀，不与药品发生化学反应或吸 附药品”，并按工艺流程顺序布置防止差 错和减少污染