杨平等：含铜取向硅钢磁性能波动成因分析 ·205. 2.cm (c) RD 100) TD 200μm (e) RD 100 200m ■ 注：1101<001>，110月<227>，210<001> 图5成品板组织及大等轴二次品粒取向成像与极图.(a)成品板宏观侵蚀组织：(b)高磁性能样品取向成像：()高磁性能样品{100： 极图：(d)低磁性能样品取向成像：（©）低磁性能样品100！极图 Fig.5 Secondary recrystallization structures and EBSD orientation images and0 pole figures of large equiaxial grains:(a)macroscopical etched structures:(b)EBSD orientation images with higher magnetic properties;(e)pole figures of grains with higher magnetic properties;(d) EBSD orentation images with lower magnetic properties;(e)100pole figures of grains with lower magnetic properties 向不均匀分布，提高成品板中出现线晶的可能性. 品对应的热轧板边部位置的表层形貌，可见电解后 图6(c)为另一热轧板中心层组织，可见存在粗大长 表面组织很不均匀，出现呈沿轧向分布的条形组织， 条形变品粒，如箭头所示.电子背散射衍射测定表 即电解时出现不均匀溶解：中间样品为取自该样品 明（见图6(d),6(e),该晶粒取向正好是旋转立方 热轧板中心位置表层的形貌，可见表面光滑均匀，即 取向{100}〈011).这些晶粒内部抑制剂分布不同 电解时表面均匀溶解：右侧为磁性能高的样品对应 于正常区域（很可能少于正常区域的抑制剂密度）， 的热轧板表层形貌，也表现出均匀溶解.由此可见， 尺寸较大的晶粒往往是{100！类或α取向线附近的热轧板边部与中心部位表层的组织均匀性不同，这 取向.二次冷轧后在高温慢速加热退火时，{100}晶 应与热轧板边部、中心位置温度不同有关.而右侧 粒尺寸大于{111}晶粒，随后的二次再结晶过程中， 取自性能好的样品，对应热轧板边部表层电解萃取 这种{100}晶粒就可能不能被高斯取向晶粒吃掉， 后表面形貌是均匀的，说明不同批次热轧板相同位 从而成为线晶区的一部分. 置的组织也不同，即热轧工艺稳定性还不够.表面 图7给出用电解法萃取抑制剂时不同热轧板及 形貌的差异不仅对应晶粒形貌的不同，还应对应抑 不同位置的表面低倍形貌.左侧为最终磁性能差样 制剂分布的差异.图7中左侧热轧板表层应是形变杨 平等: 含铜取向硅钢磁性能波动成因分析 图 5 成品板组织及大等轴二次晶粒取向成像与极图 郾 (a) 成品板宏观侵蚀组织; (b) 高磁性能样品取向成像; (c) 高磁性能样品{100} 极图; (d) 低磁性能样品取向成像; (e) 低磁性能样品{100}极图 Fig. 5 Secondary recrystallization structures and EBSD orientation images and {100} pole figures of large equiaxial grains: (a) macroscopical etched structures; (b) EBSD orientation images with higher magnetic properties; ( c) {100} pole figures of grains with higher magnetic properties; ( d) EBSD orientation images with lower magnetic properties; (e) {100} pole figures of grains with lower magnetic properties 向不均匀分布,提高成品板中出现线晶的可能性. 图 6(c)为另一热轧板中心层组织,可见存在粗大长 条形变晶粒,如箭头所示. 电子背散射衍射测定表 明(见图 6(d),6(e)),该晶粒取向正好是旋转立方 取向{100} 掖011业. 这些晶粒内部抑制剂分布不同 于正常区域(很可能少于正常区域的抑制剂密度), 尺寸较大的晶粒往往是{100}类或 琢 取向线附近的 取向. 二次冷轧后在高温慢速加热退火时,{100}晶 粒尺寸大于{111}晶粒,随后的二次再结晶过程中, 这种{100}晶粒就可能不能被高斯取向晶粒吃掉, 从而成为线晶区的一部分. 图 7 给出用电解法萃取抑制剂时不同热轧板及 不同位置的表面低倍形貌. 左侧为最终磁性能差样 品对应的热轧板边部位置的表层形貌,可见电解后 表面组织很不均匀,出现呈沿轧向分布的条形组织, 即电解时出现不均匀溶解;中间样品为取自该样品 热轧板中心位置表层的形貌,可见表面光滑均匀,即 电解时表面均匀溶解;右侧为磁性能高的样品对应 的热轧板表层形貌,也表现出均匀溶解. 由此可见, 热轧板边部与中心部位表层的组织均匀性不同,这 应与热轧板边部、中心位置温度不同有关. 而右侧 取自性能好的样品,对应热轧板边部表层电解萃取 后表面形貌是均匀的,说明不同批次热轧板相同位 置的组织也不同,即热轧工艺稳定性还不够. 表面 形貌的差异不仅对应晶粒形貌的不同,还应对应抑 制剂分布的差异. 图 7 中左侧热轧板表层应是形变 ·205·