四训大学图考怖 灰尚明怎摩释收迷 冬于所章地特衣零 背景知识 集成电路布图设计的保护是以著作权法为基础，结合专利法有关规定的混合型保护模式 布图设计本身兼具工业产权和著作权保护对像的双重特性 ~要求受保护的布图设计应当具有独创性，所谓独创性除了是创作人独立完成的以外，还要求有一定 的创作高度不能是常规的设计。 >布图设计专用权的归属遵循著作权法的原侧，一般属于创作者，法人或者其它组织在一定条件下也 是创作者。关于权利的转让与许可、权利穷竭和强制许可的条件都与著作权法的一般原则大体相当。 >布图设计专用权并不像著作权那样自创作完成之时产生，而是在经国家知识产权局登记后才产生， 未经登记的布图设计不能得到保护 集成电路布图设计的保护是以著作权法为基础，结合专利法有关规定的混合型保护模式 布图设计本身兼具工业产权和著作权保护对象的双重特性  要求叐保护的布图设计应当具有独创性，所谓独创性除了是创作人独立完成的以外，还要求有一定 的创作高度丌能是常觃的设计。  布图设计与用权的归属遵循著作权法的原则，一般属于创作者，法人戒者其它组织在一定条件下也 是创作者。关于权利的转让不许可、权利穷竭和强制许可的条件都不著作权法的一般原则大体相当。  布图设计与用权幵丌像著作权那样自创作完成之时产生，而是在经国家知识产权局登记后才产生， 未经登记的布图设计丌能得到保护 背景知识