4.2开口系统的能量平衡 图1-2开口系统流动过程中的能量平衡 P2 制 控制容积(CV) 冷 原 界面 an di 理 基准面 与 技图示开口系统,d时间内,质量n(体积为)的微 s元工质流入截面1-1,质量n2(体积为W2)的微元工质流出 术2,系统从外界得到热量况,对机器设备作功W。 过程完成后系统内工质质量增加dm,系统总能增加dEcv 由系统能量平衡的基本表达式有 :1+1+8-(0+5+0)=d(1D制 冷 原 理 与 技 术 4.2 开口系统的能量平衡 由系统能量平衡的基本表达式有 图示开口系统，dτ时间内，质量 的微 元工质流入截面1-1，质量 的微元工质流出 2-2，系统从外界得到热量 ，对机器设备作功 。 过程完成后系统内工质质量增加dm, 系统总能增加dECV ( ) m1 体积为dV1 ( ) m2 体积为dV2 Q Wi dE + p dV + Q − dE + p dV + Wi = dECV ( ) 1 1 1  2 2 2  (1-17) 图1-2 开口系统流动过程中的能量平衡