化学工程基础是工程技术的一个分支,是一门探讨化工生产过程的基本规 律、并应用这些规律解决生产问题的学科本课程是在高等数学、物理学及物理 化学等课程的基础上开设的一门基础技术课。 本课程的主要任务是研究化工单元操作及反应过程的基本原理、典型设备的 构造及工艺尺寸的计算,通过本课程的学习,使学生理解化学工程规律在化工生 产中的应用,获得化工计算及设计的基础训练培养学生分析和解决有关化工操 作中各种问题的能力,以便在化工生产、科研和设计工作中达到强化生产过程、 提高产品质量、提高设备生产能力和效率降低设备投资及产品成本、节能、防 止污染及加速新技术开发等方面的目的

▪ 羧酸衍生物与Grignard试剂的反应 ▪ 羧酸衍生物的还原反应 ▪ 通过羧酸衍生物制备醛、酮 ▪ 腈及其制备方法，腈的化学性质

1常用物理量单位变换; 2流体静力学方程的应用; 3伯努力方程的应用; 4阻力计算; 5孔板流量计的应用; 6离心泵的结构、特性参数、特性曲线及离心泵的安装高度的计算

主要内容 ●苯环上取代基对亲电反应的影响。取代基的分类,致活基 和致钝基,邻对位定位基和间位定位基。 ●取代基对反应活性的影响及定位作用的理论解释。亲电取 代中间体的稳定性分析。 双取代基的定位作用,位阻对定位的影响。 ●取代基的定位作用在合成中的应用

本讲重点: 了解单片机发展的现状; 掌握AT89C系列1051,2051,4051特点与应用; 对P89LPC932会用实验装置,会编程应用; 熟悉ADuC832的特性,会编程下载; 对本讲重点介绍的其他几种单片机有了解

⚫ 萘的结构，萘环上的亲电取代反应，取代基对反应取向的影响，萘环上的氧化还原 ⚫ 蒽和菲的性质（芳香性和烯烃性质） ⚫ Haworth萘合成法，蒽和菲的制备 ⚫ 多苯代脂烃和联苯类的制备和性质 ⚫ 几个非苯芳烃及性质简介

第三章复杂直流电路 1.掌握基尔霍夫定律及其应用,学会运用支路电流法分析计算复杂直流电路 2.掌握叠加定理及其应用。 3.掌握戴维宁定理及其应用

概述 硅表面SiO2的简单实现,是硅材料被广泛 应用的一个重要因素。本章中,将介绍SiO2的 生长工艺及用途、氧化反应的不同方法,其中 包括快速热氧化工艺。另外,还简单介绍本工 艺中最重要的部分--反应炉,因为它是氧化 、扩散、热处理及化学气相淀积反应的基本设 备

➢ 炔烃的几种制备方法 ➢ 炔烃的亲电加成（加成类型，加成取向），在合成中的应用 ➢ 炔烃的两种还原方法及在合成中的应用（顺、反烯烃的制备） ➢ 末端炔烃的特殊性质及在合成中的应用

7.1 弯曲正应力 7.2 弯曲正应力强度条件 7.3 弯曲切应力及强度条件