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12-3理想气体的压强公式 一、理想气体的微观模型 (1)分子可视为质点;线度d≈10-10m间距r≈10m,d<
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第21章门电路和组合逻辑电管电路 21.1脉冲信号 21.2晶体管的开关作用 21.3分立元件门电路 21.4TTL门电路 21.5MOS门电路 21.6逻辑代数 21.7组合逻辑电路的分析与综合 21.8加法器 21.9编码器 21.10译码器和数字显示 21.10数据分配器和数据选择器 21.12应用举例
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一、选择题(单项选择共20分,答案写在答卷纸上。) 1.用浓度为c(mol/L)的KMnO4标准溶液分别滴定体积相等的FeSO4和H2C2O4溶液,消耗KMnO4的体积相等,则说明两溶液的浓度C(mol/L)的关系是:
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6.1 概述(Brief introduction) 6.2 吸光光度法 6.3 比色法和吸光光度法和及其仪器 6.4 光度分析法设计 6.5 光度分析法的误差
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1. 了解分析化学的任务 2. 了解分析方法分类 3. 了解分析化学发展简史
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5.1 概述(Brief introduction) 5.2 沉淀溶解度及其影响因素 5.3 沉淀的类型和形成 5.4 影响沉淀纯净的因素(自学) 5.5 沉淀条件的选择 5.6 有机沉淀剂(自学) 5.7 重量分析结果的计算 5.8 沉淀滴定法
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7.1 有关误差的一些基本概念 7.2 随机误差的分布 7.3 有限数据的统计处理 7.4 测定方法的选择与测定准确度的提高 7.5 有效数字
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一、选择题或填充题(30分,每答或每空2分): 1-5.B、C、A、C、B 6-11.C、B、C、D、D、D 12.填空9.30,9.34
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1. 丰度和克拉克值的概念 2. 元素在地壳中的分布 3. 元素的分配规则 4. 名词概念 5. Bowen反应系列 6. 岩浆岩分类 7. 沉积岩 8. 变质岩 9. 三大岩类的区别
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本章在分析弯曲变形过程及弯曲件质量影响因素的基 础上,介绍弯曲工艺计算、工艺方案制定和弯曲模设计。 涉及弯曲变形过程分析、弯曲半径及最小弯曲半径影响因 素、弯曲卸载后的回弹及影响因素、减少回弹的措施、坯 料尺寸计算、工艺性分析与工艺方案确定、弯曲模典型结 构、弯曲模工作零件设计等
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