第八章基本光刻工艺流程 光刻的目的和意义第四章已做过简单的描 述,这一章主要介绍基本光刻工艺中的表面准 备至曝光的工艺步骤及光刻胶的特性。 8.1简介 圆 光刻工艺首先是 在晶园表面建立尽可 表面层 能接近设计规则中所 晶圆 要求尺寸的图形,其 次是在晶园表面正确 图形层 定位图形。 晶圆第八章 基本光刻工艺流程 光刻的目的和意义第四章已做过简单的描 述，这一章主要介绍基本光刻工艺中的表面准 备至曝光的工艺步骤及光刻胶的特性。 8.1 简介 光刻工艺首先是 在晶园表面建立尽可 能接近设计规则中所 要求尺寸的图形，其 次是在晶园表面正确 定位图形。 晶圆 晶圆 晶圆 表面层 图形层