因为最终的图形是用多个掩膜版按照特定的 顺序在晶园表面一层一层叠加建立起来的。图 形定位的要求就好像是一幢建筑物每 层之间所要求的正确对准。如 #2 果每一次的定位不准,将会导栅掩膜 致整个电路失效。除了对特征 阱掩膜 图形尺寸和图形对准的控制, #3 接触 掩膜 在工艺过程中的缺陷水平的控 制也同样是非常重要的。光刻 #4 操作步骤的数目之多和光刻工 艺层的数量之大,所以光刻工 #5 艺是一个主要的缺陷来源 PAD 掩膜因为最终的图形是用多个掩膜版按照特定的 顺序在晶园表面一层一层叠加建立起来的。图 形定位的要求就好像是一幢建筑物每一 层之间所要求的正确对准。如 果每一次的定位不准，将会导 致整个电路失效。除了对特征 图形尺寸和图形对准的控制， 在工艺过程中的缺陷水平的控 制也同样是非常重要的。光刻 操作步骤的数目之多和光刻工 艺层的数量之大，所以光刻工 艺是一个主要的缺陷来源。 # 2 栅掩膜 # 1 阱掩膜 # 3 接触 掩膜 # 4 金属 掩膜 # 5 PAD 掩膜