集成电路工艺就是在硅片上执行 系列复杂的化学和物理操作,制作 出所要的器件和电路。这些操作分为 4大类: 1.薄膜; W2 LD-2 2光刻; 警M签 W1 L 3.刻蚀; P++ p++field or s A+ p+ n-well p-well 4.掺杂; zhang@fudan.edu.cn复旦大学张荣君rjzhang@fudan.edu.cn 复旦大学 张荣君 集成电路工艺就是在硅片上执行 一系列复杂的化学和物理操作，制作 出所要的器件和电路。这些操作分为 4大类： 1. 薄膜； 2. 光刻； 3. 刻蚀； 4. 掺杂； M-2 M-2 W2 IL D- 1 IL D- 1 n-well p-well W1 W1 M-1 M-1 field oxide field oxide n+n+ p+p+ n++ n++ p++ p++ p++ p++ n++ n++ n++ n++ p++ p++ ILD-2