§6,2实际肖特基势垒高度的调制 622M/S接触中的界面态及其对势垒高度的调制 CoS Pd.Si 可以看出,由于表面 PIS Mos 态的钉扎效应,和ψ H T,PD AI M Cr Au Pd Ir Pt 经常没有依赖关系。 金属和N型与P型半 06 导体分别组成的金属半 称 导体接触的势垒高度与 B 金属功函数的关系如左 图,每根线段上面点表 35 40 45 50 55 pres中;coe(e 示N型势垒高度,下面 点表示P型势垒高度 (Ref: S.Swirhun PhD Stanford Univ. 1987)§6.2 实际肖特基势垒高度的调制 6.2.2 M/S接触中的界面态及其对势垒高度的调制 可以看出，由于表面 态的钉扎效应， 和 经常没有依赖关系。 金属和N型与P型半 导体分别组成的金属半 导体接触的势垒高度与 金属功函数的关系如左 图，每根线段上面点表 示N型势垒高度，下面 点表示P型势垒高度 (Ref：S.Swirhun.PhD.Stanford Univ.1987) φ Bn φ Bp φ B φ M