第4章扫描 基准面1 图4.33“垂直于曲线”基准面 图4.34“轮廓线”草图 轮席和路径 c■互B2 仁路径[草m 选项(Q) 方向转类型 阵路径变化 图4.35“扫描”特征 (6)选取前视基准面,单击【草图绘制】按钮图,进入草图绘制,绘制草图,如 图436(a)所示。单击【拉伸凸台基体】按钮 出现【拉伸】属性管理器,在 【终止条件】下拉列表框内选择【成形到一面】选项,选择“面<1>”,选中【方 向2】复选项,在【终止条件】下拉列表框内选择【成形到一面】选项,选择“面 <2>”,单击【确定】按钮∽,如图4.36(b)所示 成勤一面 F合并结果M 成形到一面 ■面 (a)草图 (b)“拉伸”特征 图4.36“拉伸”特征 (7)单击【曲线驱动阵列】按钮圖出现【曲线阵列】属性管理器,【阵列方向】选 择“草图1”,在【实例数】文本框内输入“350”,选中【等间距】复选框,【要 阵列的特征】选择“拉伸1”,单击【确定】按钮∽,如图437所示第 4 章 扫描 ·73· ·73· 图 4.33 “垂直于曲线”基准面 图 4.34 “轮廓线”草图 图 4.35 “扫描”特征 (6) 选取前视基准面，单击【草图绘制】按钮 ，进入草图绘制，绘制草图，如 图 4.36(a)所示。单击【拉伸凸台/基体】按钮 ，出现【拉伸】属性管理器，在 【终止条件】下拉列表框内选择【成形到一面】选项，选择“面<1>”，选中【方 向 2】复选项，在【终止条件】下拉列表框内选择【成形到一面】选项，选择“面 <2>”，单击【确定】按钮 ，如图 4.36(b)所示。 (a) 草图 (b) “拉伸”特征 图 4.36 “拉伸”特征 (7) 单击【曲线驱动阵列】按钮 ，出现【曲线阵列】属性管理器，【阵列方向】选 择“草图 1”，在【实例数】文本框内输入“350”，选中【等间距】复选框，【要 阵列的特征】选择“拉伸 1”，单击【确定】按钮 ，如图 4.37 所示