点击下载:科学出版社:《半导体材料》课程教学资源(PPT课件)第八章 异质结
正在加载图片...
目前异质结制备的一些常用方法: 1分子束外延技术 令2.MO-CVD 3液相外延 4物理气相沉积法。 6. 5. sol-gel目前异质结制备的一些常用方法: ❖ 1.分子束外延技术。 ❖ 2.MO-CVD ❖ 3.液相外延 ❖ 4.物理气相沉积法。 ❖ 5. sol-gel
<<向上翻页
向下翻页>>
点击下载:科学出版社:《半导体材料》课程教学资源(PPT课件)第八章 异质结
©2008-现在 cucdc.com 高等教育资讯网 版权所有