University of Electronic Science and Technology of China 1956 材料及其特性 成膜性能，适用基底，光敏特性，化学特性，光学 特性等 工艺技术 成膜技术，光刻技术，交换技术，波导端面形成技 术，腐蚀技术（干法与湿法）等。 【说明】不同材料制作的光波导在基本结构上是相同 的，都具有芯层与包层。因此无论使用什么波导制作 方法，其目的都是要制作出具有一定尺寸的芯层与包 层的结构，且在材料安排上应使芯层折射率大于包层 折射率。 6University of Electronic Science and Technology of China 6 ❑ 材料及其特性 成膜性能，适用基底，光敏特性，化学特性，光学 特性等 ❑ 工艺技术 成膜技术，光刻技术，交换技术，波导端面形成技 术，腐蚀技术（干法与湿法）等。 【说明】不同材料制作的光波导在基本结构上是相同 的，都具有芯层与包层。因此无论使用什么波导制作 方法，其目的都是要制作出具有一定尺寸的芯层与包 层的结构，且在材料安排上应使芯层折射率大于包层 折射率