将非晶态Fe-Ni-P合金镀层在HCI0,1moi/I溶液中浸蚀11b后，用电子能谱检测镀层表 面，指出表面层中铁含量增加而镍和磷的含量下降，表面浸蚀后的镀层表面有铁的富集。 测定镀层在0.01mol/1H2S04加3.5%Na2SO4溶液中的动电位阳极极化曲线，当电位 超过200mV后，产生钝化现象。 对照表2中数据，随着浸蚀过程进行，镀层的自腐蚀电位逐渐正移，R值不断增加。这 可以认为是因为镀层经浸蚀后，表面呈富有铁元素的钝化膜，抑制了电化学反应速度，使荷 电粒子进行电极反应的阻抗R,增加，一旦钝化膜生成后，电极表面双电层的电容趋于稳定 值。 了结 论 (1)制备非晶态Fc-Ni-P合金镀层时较好的工艺条件是，pH为3，温度为40℃，阴极 电流密度为35mA/cm2。 (2)Fe-Ni-P非晶合金镀层，在HC1或HzSO4溶液中都有较好的防腐性能。 (3)Fe-Ni-P非晶合金在酸性溶液中产生钝化。在HCI溶液中，镀层表面生成富铁钝化 膜，使双电层电容趋于定值，抑制了电化学腐蚀过程。 参考文献 1 Masumoto T,Hashimoto K.Ann.Rev.Mater.Sci.1978,8:215 2 Raman V.Plating and Surface Finishing,1982,5:132 3 Lashmore D S.Plating and Surface Finishing,1982,8:76 4付静嬡，罗泾源。北京钢铁学院学报，1987,1：98 5罗泾源，王明生.北京科技大学学报，1990,12(5)：491 6 Luke D A.Trans.Inst.Met.Finish.,1986,3:99 7陈晓怡，罗泾源。金属学报，1988,2B:158 285将非晶态F e 一 N i 一 P合金镀层在H CI o . l m ol l/ 溶液中浸蚀 l hl 后 , 用 电子 能谱检测镀层表 面 , 指 出表面层中铁含量增加而镍和 磷的含量下 降 , 表面浸 蚀后的镀层表 面 有铁 的富集 。 测定镀层 在。 . 0 1 m ol l/ H Z S O 4 加 3 . 5肠N a 。 5 0 4溶 液中的动 电 位阳极极 化 曲 线 , 当电 位 超过20 Om V 后 , 产生钝化现象 。 对照 表 2 中数据 , 随着 浸蚀 过程 进行 , 镀 层的 自腐蚀电位逐 渐正移 , R p值不 断增加 。 这 可以 认为是 因为镀 层经浸蚀后 , 表面呈富有铁元 素的钝化 膜 , 抑制 了电化学反应速度 , 使 荷 电粒子进 行电 极反应的阻抗 R p增加 , 一 旦钝 化 膜 生成 后 , 电极 表面双电层的电 容趋于稳定 值 。 3 结 论 ( 1) 制备非晶态 F e 一 N i 一 P 合金 镀层 时较好 的 工 艺条件是 , p H 为 3 , 温 度 为 40 ℃ , 阴极 电流密度为3 5 m A / e m “ 。 ( 2) F e 一 N i 一 P 非晶合 金 镀层 , 在H CI 或 H : 5 0 4 溶液中都有较好 的防 腐性能 。 ( 3) F e 一 N i 一 P 非晶合金 在酸性溶液中产生钝化 。 在 H CI 溶 液 中 , 镀层表 面生成富 铁钝化 膜 , 使双电层 电容趋 于定值 , 抑制了 电化学腐蚀过 程 。 参 考 文 献 M a s u m o t o T , H a s h i m o t o K 。 A n n . R e v . M a t e r . S e i 。 1 9 7 8 , 8 : 2 1 5 R a m a n V . P l a t i n g a t d S u r f a e e F i n i s h i n g , 1 9 5 2 一 5 : 1 3 2 L a s h m o r e D S 。 P l a t i 几 9 a n d S u r f a e e F i n i s h i n g , 1 9 8 2 , 8 : 7 6 付静媛 , 罗 径源 。 北京钢 铁 学院学 报 , 1 9 8 7 , 1 : 98 罗径源 , 王 明生 . 北京科技大 学学报 , 1 9 9 0 , 22 ( 5 ) : 4 9 1 L u k e D A 。 T r a n s 。 I n s t 。 M e t . F i n i s h 。 , 19 8 6 , 3 : 9 9 陈晓怡 , 罗径源 . 金属 学报 , 1 9 8 8 , Z B : 15 8 2 8 5