Fe-Ni-P非晶合金镀层的腐蚀特性

D0I:10.13374/i.is8n1001053x.1991.03.032 北京科技大学学报 第13卷第3期 Vo1.13No.3 1991年5月 Journal of University of Science and Technology Beijing May 1991 Fe-Ni-P非晶合金镀层的腐蚀特性 罗泾源·王明生· 摘要：研究了PH为3，温度为40°C,阴极电流密度为35mA/cm2所得到的Fe-Ni-P 非品合金俄层，在酸性溶液中有较好的抗腐蚀性，并以交流阻抗法测定了镀层的密蚀过程。 关键词：非品Fe-Ni-P合金，腐蚀性能，交流阻抗法，Fe-Ni-P体系 Corrosion Behavior of Amorphous Fe-Ni-P Alloy Plating Foils Luo Jingyuan Wang Mingsheng' ABSTRACT:This paper studied corrosion behavior of plating foils depending upon the technic condition of amorphous Fe-Ni-P alloy electrodeposition.In acid solutions,the Tafel polarization curves were measured.The results indi- cated that the amorphous Fe-Ni-P alloy coating had better corrosion resistance behavior.After attached in HCl solution,the electroplating foil was researched with AC impedance system for corrosion process. KEY WORDS:amorphous alloy,corrosion behavior,Fe-Ni-P system,AC impe- dance 非晶合金具有优越的磁学性能、高强度和韧性的综合力学性能，还有很好的抗腐蚀 性r1)。Fe-Ni合金镀层有优良的光亮性c2),在腐蚀介质中镀层会由于点蚀而有较大的溶解 电流，使镀层的抗蚀性很差。磷的加人，可使过渡元素组成的合金呈非晶态结构3-5)，显 示出很高的抗腐蚀性r-?。本文以电沉积法制备了非晶态Fc-Ni-P合金镀层，探讨此镀层 的腐蚀性能。 1990一12-21收稿 ,化学系(Department of Chemistry) 281

第 31 卷第 3 期 北 京 科 技 大 学 学 报 1 90 1年 : 月 J o u r n a l o f U n i v e r s i t y o f S e i e n e e a n d T e e h n o l o g y B e i j i n 之 V o l 。 1 3N o . 3 M a y 1 99 1 Fe 一 Ni 一 P非 晶合金镀层 的腐蚀特性 罗经 源 . 王 明生 ’ 摘 要 : 研究 了 P H 为 3 , 温度为; ao c , 阴极电流密度为3 5 m A c/ m “ 所得 到的 F e 一 N 卜 P 非 晶合金镀 层 , 在 酸性 溶液中有较好 的抗 腐蚀性 , 并以 交流阻 抗法测 定 了镀 层的腐 蚀过程 。 关键词 : 非晶 F e 一 N 卜 P 合 金 , 腐蚀 性能 , 交流阻 抗法 , F e 一 N 卜 P 体 系 C o r r o s i o n B e h a v i o r o f A m o r Ph o u s F e 一 N i 一 P A l l o y P l a t i n g F o i l s L : z o J ￡n 夕夕 u a 伦 ’ W a n 夕 M ￡n 夕 s h e 刀 夕 ` A B S T R A C T : T h i s p a p e r s t u d i e d e o r r o s i o n b e h a v i o r o f p l a t i n g f o i l s d e p e n d i n g u p o n t h e t e e h n i e e o n d i t i o n o f a m o r p h o u s F e 一 N i 一 P a l l o y e l e e t r o d e p o s i t i o n · I n a e i d s o l u t i o n s , t h e T a f e l p o l a r i z a t i o n e u r v e , w e r e nt e a s u r e d . T h e r e s u l t , i n d i - e a t e d t h a t t h e a m o r p h o u s F e 一 N i 一 P a l l o y e o a t i n g h a d b e t t e r e o r r o s i o n r o s i , t a n e e b e h a v 玉o r · A f t e r a t t a e 五e d i n H C I s o l u t i o n , t h e e l e e t r o p ! a t i n g f o i l w a ; r e s e a r e h e d w i t h A C i m p e d a n e e s J 厂 s t e m f o r e o r r o “ i o n p r o c e s s · K E Y W O RD S : a m o r p h o u s a l l o 丁, e o r r o s i o n b e h a 、 · i o r , F e 一 N i 一 P s y , t e m , A C i m p e - d a n e e 非 晶合金具有优越 的磁学 性能 、 高强度和韧 性的 综 合 力 学 性能 , 还 有 很 好 的抗腐蚀 性 〔 ` ’ 。 F 。 一 N i 合金 镀层 有优 良的 光亮性 〔 “ , , 在腐蚀介质中镀层 会由于点蚀而 有较 大的 溶解 电流 , 使镀层 的抗蚀性很差 。 磷的加 入 , 可使过渡元素组成的合金 呈非 晶态结 构 〔 “ 一 弓 ’ , 显 示出很高的抗 腐蚀性 〔 ” 一 7 ’ 。 本文 以电沉积法制备了非晶态 F e 一 N i 一 P 合 金镀层 , 探讨此镀层 的 腐蚀性能 。 , - - 一一一- ~ 一一~~ ~ ~ ~ ~ ~ ~ 一~ J , 9 0一 1 2一 2 1 收稿 化 学系 ( D e P a r t m e n 布 o f C h e m i , t r y ) 夕8 1 DOI: 10. 13374 /j . issn1001 -053x. 1991. 03. 032

1实验方法 Fe-Ni-P非晶合金电镀液的配方和工艺条件为： FeC12·4H20106g/1 NiCl2·6H20124g/1 NaH2P02·Hz030g/1 CeHaO 30 g/I HBO3 30 g/1 C。H120。·H205g/I pH0.8-2.3 温度23-50℃ 阴极电流密度15一45mA/cm2 电镀实验采用恒电流法，阴极是铜片，阳极是高纯镍片。腐蚀实验是用351型腐蚀测试 系统测定镀层在酸性溶液中的塔费尔曲线。以368型交流阻抗测试系统对镀层在不同溶液中 进行阻抗测量。 实验是以饱和甘汞电极作参比电极，石墨为辅助电极。 2实验结果和讨论 2.1不同电镀工艺条件下所得镀层的腐蚀性能 为考查电镀工艺条件对镀层在介质中的防腐能力，现以不同pH的镀液、温度和电流密 度下设计了一系列电镀过程实验。在基体钥片上电镀0,5h后所得的Fe-Ni-P非晶镀层置于不 同pH的HC1溶液中，用351型腐蚀测试系统测定镀层的阴、阳极塔费尔曲线。起始电位 -250mV,最终电位250mV,扫描速度为0.4mVs-。从所得镀层在介质中的不同pH,温度 和电流密度下的塔费尔曲线求得其腐蚀电流分别如下： (1) pH 0.8 1,3 1.8 2.3 Ico::.,mA/cm2 4.74 0.02 0.13 0.19 (2) T℃ 23 30 40 50 Icort.,mA/cm2 6.30 3.80 0.13 5.0 (3) Dx,mA/cm2 15 25 35 45 Ic。r,mA/cm2 4.36 0.13 0.09 1.82 实验指出，电镀时溶液的酸度过高，电极上有大量H析出，镀层表面会出现点刺。这 种镀层在酸性溶液中有较大的腐蚀电流。电镀时的阴极电流密度过低，沉积速度太慢，且得 不到光亮的合金镀层。电流密度太高，会降低镀层中磷的含量。X射线分析的结果指出，当 镀层中磷含量低于8wt%时，Fc-Ni-P合金不呈非晶态结构，而其防腐能力很低。电镀时温 度在40℃时，得到镀层中含磷量最高。 282

实 验 方 法 1 F e 一 iN 一 P非晶合金 电镀液的配方和工艺条件为 : F e C I : · 4 H : 9 C N 1 1 / I I 6 0 0 : · H 6 : 9 4 1 2 0 / l N a H : P O : · H 2 9 0 0 3 C / 1 6 H s O 。 9 0 3 l / H B O 3 9 0 3 / C 1 o H 1 2 0 。 · H : 9 l / 5 0 H p O 。 8 一 2 。 温度 一 ,C 2 5 0 3 3 阴极电流密度 1 5一 4 5m A / 。 m Z 电镀实验采用恒电流法 , 阴极是铜片 , 阳极是高纯镍片 。 腐蚀实验是用 35 1 型腐蚀侧试 系统潞定镀层在酸性溶液中的塔费尔曲线 。 以 36 8 型 交流阻抗侧试系统对镀层在不 同溶液中 进行阻抗测量 。 实验是以 饱和甘汞 电极作参比电极 , 石墨为辅助电极 。 2 实验结果和讨论 2 。 1 不 同电旅工艺条件下所娜镀层 的腐蚀性能 为考查电镀工艺条件对镀层在介质 中的防腐能力 , 现以不 同 p H 的镀液 、 温 度和电流密 度下设计了一系列 电镀过程实验 。 在基 体铜片上电镀 O 。 h5 后所得的 F e 一 N 卜 P非 晶镀层置于不 同 p H 的 H CI 溶液中 , 用 3 51 型腐蚀测试系统侧定镀 层 的 阴 、 阳 极 塔 费 尔 曲 线 。 起始电位 一 25 Om V , 最终电位25 o m V , 扫描速度为0 。 4 m V o s 一 ’ 。 从所得镀层在介质 中的不 同p H , 温度 和电流密度下的塔费尔曲线求得其腐蚀电流 分别如下 : ( 1 ) P H cI 。 : : 。 , m A / e m Z 0 . 8 4 。 7 4 l 。 3 0 。 0 2 1 。 8 0 。 1 3 2 一 3 0 。 1 9 ( 2 ) T ℃ cI 。 : : 。 , m A / e m 么 2 3 6 。 3 0 3 0 3 一 8 0 4 0 0 . 1 3 ( 3 ) D , , m A / c m Z cI 。 : , 。 , m A / e m 1 5 4 一 3 6 2 5 0 。 1 3 0 。 0 9 4 5 l 一 8 2 实验指 出 , 电镀时溶液的酸度过高 , 电极上有大量 H : 析 出 , 镀层 表 面 会出现点刺 。 这 种镀层在酸性溶液中有较大的腐蚀电流 。 电镀时的阴极电流密度过低 , 沉积速度太慢 , 且得 不 到光亮的合金镀层 。 电流密度太高 , 会降低镀层 中磷的含量 。 X 射线分析的结果指 出 , 当 镀层 中磷含量低于 8 二 t %时 , F e 一 N 卜 P合金不 呈非晶态 结构 , 而其防腐能 力 很低 。 电镀 时温 度在40 ℃ 时 , 得到镀层中含磷量最高 。 2 8 2

根据以上的实验结果，确定电镀时的工艺条件是：溶液的pH为1.3，温度为40℃，阴极 电流密度为35mA/cm2。所得的镀层光亮，呈非晶态结构，具有良好的抗腐蚀性能。 2.2非晶态Fe-Ni-P合金镀层在强腐蚀介质中的抗腐蚀性 由上所选定电镀液的配方和工艺条件所得到的非晶态Fe-Ni-P镀层，分别放在1moI/ HC1溶液和0.5mol/1H2S04溶液中，用351型腐蚀测试系统绘制其阴、阳极极化曲线，见图 1。 -150 -200 250 .5mol/I H2 1mo1/2 -300 350 日-400 -450 0.5n -500 21mol/1 fiCl -550 H250 -600 -5.5-5.0-4.5-4.0-3.5-3.0-2.5-2.0-1.5 iog (I/A.em2) 图1非品态Fc-Ni-P合金饿层在溶液中的极化曲线 Fig.1 The polarization curves of amorphous Fe-Ni-P alloy coating 由电极在2种溶液中的阴、阳极塔费尔曲线，得到镀层在1mol/1HC1溶液中的自腐蚀 电位e。=-0.361V,腐蚀电流密度I。r,=0.562mA/cm2。在0.5mol1H2S0,溶液中的 自腐蚀电位e。=-0.331V,腐蚀电流密度I。or:=0.38mA/cm2。由此可知非晶态Fe-Ni-P 合金镀层在上述2种溶液中的I。。r:都较小，说明镀层有较好的抗腐蚀性能。 *0 1 .0 Rsol Rsoite Rsoi+Rp Zne 2 图2电极过程中出现浓差极化时的奈奎斯特图 图3镀层在溶液中腐蚀时的等效阻抗 Fig.2 Nyquist plot of a clectrode Fig.3 Equivalent clectronic circuit process in concentration for a corroding coating in polarization solution 283

根据以 上的实验结果 , 确定电镀时 的工艺条件是 : 溶液的 p H为1 . 3 ; 温度为4。 ℃ ; 阴极 电流密 度为 35 m A cj m “ 。 所得 的镀层光亮 , 呈非 晶态结 构 , 具有良好的抗 腐蚀性能 。 2 . 2 非晶态 F e 一 iN 一 P 合金镀 层在 强腐蚀介质 中的抗腐蚀 性 由上所 选定电 镀液的 配方和工艺条件所得到 的 非晶 态 F e 一 iN 一 P 镀层 H c l溶液和。 . s m ol lj H : 5 0 ; 溶液中 , 用 35 1型腐蚀 测试系统 绘制其阴 、 1 。 , 分 别 放 在 l m o l { 阳极极 化曲线 , 见 图 一 1 “ “ } 心 。” ! 一” ” } 一 3 0” { 七 一 5 0 1 泞 1 蔺 一 Q。 } 一5 “ } 一 5 ” 0 } 一 5 5 0 } . 6 0 0 L 刁矽 公 令 、 洲产 跻讨… 热,一书毅 。 」,1 ` r , C、 一 片 一 月 习一气狡又甘一万 一 5 . 5 一 5 . 0 一 4 . 5 一 4 . 0 一 3 . 5 一` 不丁二获厂两拓 { 一 1 . 5 1 0 9 ( I A/ · e 洲 ) 图 1 非晶态 F 卜 N i 一 P合 金镀层在 溶液 中的极化曲线 F i g . l 丁 h e P o l a r i 名 a t i o n e u r v e s o f a m o r P h o u s F e 一 N i 一 p a l l o y c o a t i n g 由电极在 2 种溶液 中的 阴 、 阳极塔费 尔曲线 , 得到 镀 层 在l m ol l H CI 溶液中的 自腐蚀 电 位 e 。 = 一 。 。 3 6 1 V , 腐蚀电流密 度 I 。 。 r r = o 。 56 2 m A j e m Z 。 在 。 。 s m o l /1 H Z S O ; 溶液中的 自腐蚀电位“ 。 = 一 0 . 3 31 V , 腐蚀电流密度 I 。 。 , r = 0 。 38 m A c/ m Z 。 由此 可知非晶态 F e 一 N 卜 P 合金 镀层在上述 2 种溶液 中的I 。 。 r r 都较小 , 说 明镀层有较好 的抗 腐蚀性能 。 。 夕 户 N住 “ 凡 。 1 R S 。 】 令 “ 5 0 1+ R P aZ 。 图 2 电极过程中出现浓差极化时的 奈奎斯特 图 F 1 9 . 2 N y q u i s t P 1 0 t o f a e l e c t r o d e P r o e e s s i n e o n e e n t r a t i o n P O l a r i z a t i o n 图 3 镀层在溶 液中腐蚀时的等效 阻抗 F 19 . 3 E q u i v a l e n t e l e c t r o n i c c i r C u i t f o r a e o r r o d宜n g e o a t i n g i n s o l u t i o n 2 83

2,3交流阻抗法对镀层腐蚀过程的研究 以368型交流阻抗测试系统分别测定俄层在HC1和HzSO,溶液中的交流阻抗。高频区频 率在5~1×105Hz范围内变动。交流振幅为5mV。直流电位是以开路电位作零电位。低频区 的基频为0,1001Hz。由于电极过程中存在浓差极化现象，得到不同频率时，体系的交流阻 抗都是类似图2的奈奎斯特曲线。体系的等效阻抗如图3所示。图中R。1是参比电极的鲁 金毛细管到研究电极之间溶液的电阻。C:1是电极与溶液之间的双电层电容。R,是荷电粒子 穿越双电层放电过程的阻抗，相当于一个与颜率无关的电阻。2代表由浓差极化引起的阻 抗。实验时，对体系通以高频率的交流电，电位变化很快，电极表面浓度跟不上电位的周期 性变化。溶液中电解质的扩散不会影响电极过程中的电流，由浓差引起的阻抗Z。可以忽略。 只有荷电粒子传递的放电过程决定了电流的大小。在低频区，由于电位交变的周期加长，加 剧了浓差极化。增大了Z值，R也就相对地减小。于是，以Z,为主决定频率响应的阻抗。 这时的电极过程是处于扩散控制之下。 实验测绘出镀层在HC1及HzSO,溶液中的奈奎斯特交流阻抗曲线。由曲线在横座标上截 点和曲线的最高点数据，列于表1。 表1镀层在不同酸性溶液中的R,及Ca1值 Table 1 The values of Rp and Ca of coating in acid solutions 测试项 的 值 溶液浓度，(mol/1) 0.1(HC1) 0.5(HC1) 0.1(H2S0) 0,5(H2S0) Ecorr,mV -381 -357 -350 -320 Rp,(2.cm2) 28.0 6.15 18,88 4.06 Ca1,(μFcm2) 144 260 131 156 溶液中HCI或H2SO,的浓度增加，电极过程中电化学反应阻力R,减少。它说明酸浓度增 加时，由于电化学反应速度加快，使电极过程很快地处于浓差极化的控制之下。同时，溶液 的浓度增加，离子强度随之增加，使电极表面的双电层厚度变薄。双电层电容与其厚度成正 比，故介质中酸浓度升高时，电容值Ca1就必然增大。 为检查镀层在酸溶液中浸渍后的表面变化，可将样品放入0,1mol/1HC1溶液中，经过 不同的浸蚀时间后，连续测定其交流阻抗图，得到经不同浸蚀时间的R,及C1,数据如表2， 从而推测其电极过程。 表2镀层经不同浸蚀时间后的R:及Cd1值 Table 2 The values of Rp and Ca of coating after different times 浸蚀时间，h Ecorr.mv RP,.cm2 Cd1,4F·cm-2 -0,386 8 西 3.5 -0.377 10 56 11 -0.363 28 57 284

2 . 3 交流阻杭法对镀层 腐蚀过程 的研 究 以 3 68 型 交流阻抗测试系统分 别侧定镀层在 H CI 和 H 2 5 0 ` 溶 液中的 交流阻抗 。 高频区频 率在 5 一 1 x 1 0 5 H z 范围 内变动 。 交 流振幅为 s m V 。 直流电位是 以开路电位作零 电位 。 低频区 的基频为 0 . l o o l H z 。 由于电极过程中存在浓 差极化现象 , 得到不 同频率时 , 体系 的 交 流阻 抗都是类似 图 2 的奈 奎斯特 曲线 。 体系 的等效阻抗如图 3 所示 。 图 中R : 。 1是 参 比 电极的鲁 金 毛 细管到研究电极 之 间溶液的电阻 。 C d l 是电极与溶液 之间 的双电层 电容 。 凡是荷电粒子 穿 越双电 层放电过程的 阻抗 , 相 当于一 个与频率无关 的 电阻 。 Z , 代 表由浓差 极 化 引起的阻 抗 。 实验时 , 对体系通 以 高频率 的 交流电 , 电位变 化很快 , 电 极表面浓度跟不上电位的周 期 性变化 。 溶 液 中电解质的 扩散不 会影响 电极过程中的 电流 , 由浓差 引起的阻抗 Z , 可以忽略 。 只 有荷电粒 子传递的放电过程决定了电 流的 大小 。 在低频区 , 由于电位 交变的 周期加长 , 加 剧了浓差极化 。 增大了 Z 二 值 , R p 也就相对地减小 。 于是 , 以 Z , 为 主决定频率 响 应的阻抗 。 这时 的 电极过程是处于扩 散控制之下 。 实验测绘 出镀层在 H CI 及 H Z S O ` 溶液 中的奈奎斯特 交流阻抗曲线 。 由 曲线在横座标上截 点 和曲线的 最高点 数据 , 列于表 1 。 表 1 镀层 在不 同酸性溶液中的 R P 及 C d ; T a b l e 1 T h e v a l u e s o f R P a n d C ` 一 o f e o a t i n g i n 值 a e i d s o l u t i o n s 测 试 项 数 值 溶 液浓度 , ( m o l / l ) o 。 i ( H C I ) 0 . 5 ( H C I ) 0 . 1 ( H : 5 0 ` ) 0 . 5 ( H Z S O . ) E e o r r , m V 一 3 8 1 一 3 5 7 一 3 5 0 一 32 0 R P , ( 口 · e 垃 2 ) 2 5 . 0 6 . 1 5 1 8 。 a 8 4 。 0 6 C d l , ( 拼F 一 e m 一 2 ) 1 4 4 2 6 0 1 3 1 15 6 溶液 中H CI 或H Z S O ` 的浓 度增加 , 电极过程 中电化学反应阻力 R p 减少 。 它说 明酸浓 度增 加时 , 由于 电化学反应速度加 快 , 使 电极过程很 快地处于 浓差 极化的控制之下 。 同时 , 溶液 的浓度增加 , 离子 强度随之增 加 , 使电极表面 的双电层厚度变薄 。 双电层 电容与 其厚度成正 比 , 故介 质 中酸浓 度 升高时 , 电容值C d , 就必然增大 。 为检查镀层在酸 溶液中浸渍后的表面 变化 , 可将样品 放 入 。 。 1 m o1 ZI H CI 溶 液 中 , 经过 不同的 浸蚀时 间后 , 连 续测定其 交流阻 抗 图 , 得到经不 同浸蚀 时间的 R p及 C d ; , 数 据如表 2 , 从而推 测其电极 过程 。 表 2 镀层 经不同 浸蚀时 间后的 R p 及 C d , 值 T a b l e 2 T h e v a l u e s o f R : a n d C d 1 o f e o a t i n g a f t e r d i f f e r e n t t i m e s 役蚀时 间 , h E e o r r 。 m V R P , 口 一 e m Z C d l , 召F 一 e 口 一 2 一 0 。 3 8 6 一 0 。 3 77 一 0 。 3 6 3 1 0 2 8 56 5 7 2 8 4

将非晶态Fe-Ni-P合金镀层在HCI0,1moi/I溶液中浸蚀11b后，用电子能谱检测镀层表 面，指出表面层中铁含量增加而镍和磷的含量下降，表面浸蚀后的镀层表面有铁的富集。 测定镀层在0.01mol/1H2S04加3.5%Na2SO4溶液中的动电位阳极极化曲线，当电位 超过200mV后，产生钝化现象。 对照表2中数据，随着浸蚀过程进行，镀层的自腐蚀电位逐渐正移，R值不断增加。这 可以认为是因为镀层经浸蚀后，表面呈富有铁元素的钝化膜，抑制了电化学反应速度，使荷 电粒子进行电极反应的阻抗R,增加，一旦钝化膜生成后，电极表面双电层的电容趋于稳定 值。 了结 论 (1)制备非晶态Fc-Ni-P合金镀层时较好的工艺条件是，pH为3，温度为40℃，阴极 电流密度为35mA/cm2。 (2)Fe-Ni-P非晶合金镀层，在HC1或HzSO4溶液中都有较好的防腐性能。 (3)Fe-Ni-P非晶合金在酸性溶液中产生钝化。在HCI溶液中，镀层表面生成富铁钝化 膜，使双电层电容趋于定值，抑制了电化学腐蚀过程。 参考文献 1 Masumoto T,Hashimoto K.Ann.Rev.Mater.Sci.1978,8:215 2 Raman V.Plating and Surface Finishing,1982,5:132 3 Lashmore D S.Plating and Surface Finishing,1982,8:76 4付静嬡，罗泾源。北京钢铁学院学报，1987,1：98 5罗泾源，王明生.北京科技大学学报，1990,12(5)：491 6 Luke D A.Trans.Inst.Met.Finish.,1986,3:99 7陈晓怡，罗泾源。金属学报，1988,2B:158 285

将非晶态F e 一 N i 一 P合金镀层在H CI o . l m ol l/ 溶液中浸蚀 l hl 后 , 用 电子 能谱检测镀层表 面 , 指 出表面层中铁含量增加而镍和 磷的含量下 降 , 表面浸 蚀后的镀层表 面 有铁 的富集 。 测定镀层 在。 . 0 1 m ol l/ H Z S O 4 加 3 . 5肠N a 。 5 0 4溶 液中的动 电 位阳极极 化 曲 线 , 当电 位 超过20 Om V 后 , 产生钝化现象 。 对照 表 2 中数据 , 随着 浸蚀 过程 进行 , 镀 层的 自腐蚀电位逐 渐正移 , R p值不 断增加 。 这 可以 认为是 因为镀 层经浸蚀后 , 表面呈富有铁元 素的钝化 膜 , 抑制 了电化学反应速度 , 使 荷 电粒子进 行电 极反应的阻抗 R p增加 , 一 旦钝 化 膜 生成 后 , 电极 表面双电层的电 容趋于稳定 值 。 3 结 论 ( 1) 制备非晶态 F e 一 N i 一 P 合金 镀层 时较好 的 工 艺条件是 , p H 为 3 , 温 度 为 40 ℃ , 阴极 电流密度为3 5 m A / e m “ 。 ( 2) F e 一 N i 一 P 非晶合 金 镀层 , 在H CI 或 H : 5 0 4 溶液中都有较好 的防 腐性能 。 ( 3) F e 一 N i 一 P 非晶合金 在酸性溶液中产生钝化 。 在 H CI 溶 液 中 , 镀层表 面生成富 铁钝化 膜 , 使双电层 电容趋 于定值 , 抑制了 电化学腐蚀过 程 。 参 考 文 献 M a s u m o t o T , H a s h i m o t o K 。 A n n . R e v . M a t e r . S e i 。 1 9 7 8 , 8 : 2 1 5 R a m a n V . P l a t i n g a t d S u r f a e e F i n i s h i n g , 1 9 5 2 一 5 : 1 3 2 L a s h m o r e D S 。 P l a t i 几 9 a n d S u r f a e e F i n i s h i n g , 1 9 8 2 , 8 : 7 6 付静媛 , 罗 径源 。 北京钢 铁 学院学 报 , 1 9 8 7 , 1 : 98 罗径源 , 王 明生 . 北京科技大 学学报 , 1 9 9 0 , 22 ( 5 ) : 4 9 1 L u k e D A 。 T r a n s 。 I n s t 。 M e t . F i n i s h 。 , 19 8 6 , 3 : 9 9 陈晓怡 , 罗径源 . 金属 学报 , 1 9 8 8 , Z B : 15 8 2 8 5