物理气相沉积 物理气相沉积( physical vapor deposition,PVD)是利用某种物理过程 物质的热蒸发或在粒子轰击下物质 表面原子的溅射,不涉及化学反应过程 的,实现原子从源物质到薄膜的可控转 移的薄膜(及其他材料)制备方法。物理气相沉积 物理气相沉积（physical vapor deposition, PVD）是利用某种物理过程 ⎯⎯ 物质的热蒸发或在粒子轰击下物质 表面原子的溅射，不涉及化学反应过程 的，实现原子从源物质到薄膜的可控转 移的薄膜（及其他材料）制备方法