化学气相沉积 化学气相沉积( chemical vapor deposition,CVD)是经由气态的先驱物, 通过气相原子、分子间的化学反应,生 成薄膜(及其他材料)的技术手段。化学气相沉积 化学气相沉积（chemical vapor deposition, CVD）是经由气态的先驱物， 通过气相原子、分子间的化学反应，生 成薄膜（及其他材料）的技术手段