Vol.16 No.3 袁逸等：微波等离子体CVD金刚石薄膜的显微结构 249· (见图5d),这种择优生长的金刚石晶粒在长大过程中，(100)面方向生长发育较好，晶体缺 陷较少，而晶粒四周是以(111)面长大为主，但在面长大过程中通常会产生很多李晶，如 果进一步控制沉积条件，以获得较适中的形核率，并抑制晶粒四周(111)面的长大，将 会获得更好的(100)择优生长的金刚石薄膜， 3结论 (1)在金刚石薄膜低温沉积中氧起着很强的刻蚀非金刚石相、改善金刚石晶粒形貌的 作用。 (2)金刚石晶粒长大过程中(100)面方向长大时产生的缺陷较少，而(111)面方向 长大时产生密度很高的微孪晶缺陷· 参考文献 I Ravt K V,et al.The Nucleation and Morphology of Diamond Crystals and Films Syntheszed by the combustion Films Technique.J Mater Res,1990,5(11):2356 2 Kobashi K,Nishimura K,Kawate Y,Horiuchi T.Synthesis of Diamonds by Use of Microwave Plasma Chicakalapvapdepbuiponitiooboiglogsdadw dinfnnddilhsFis.R88B3867067 3 Kobashi K,Nishimura K,Miyata K,Kumagai K,Nakaue A.(110)-Oriented Diamond films Synthesized by Microwave Chemical-Vapor Deposition.J Mater Res,1990,5 (11):2469 4 Haubner R,Lux B.Inflbence of Inhomogeneous Microwave Plasma on Diamond Morphology.Intt J. RRfifrett.Hamid Mater,1987,6:210 5昌反修，杨保雄，蒋高松.MPCVD低温沉积金刚石薄膜及其特征，北京科技大学学报，1992,14(2)：168 6杨保雄，蒋高松，吕反修.氧在微波等离子体辅助CVD低温沉积金刚石薄膜中的作用.薄膜科学与 技术，1992,5(3)：24 7 Angus JC.et al.Twinning and Faceting in Early Stages of Diamond Growth by Chemical Vapor Deposition. J Mater Res,1992,7(11):3001V o l . 16 N o . 3 袁逸等: 微波等离子 体 C V D 金 刚石薄膜的显微结构 (见 图 sd) . 这 种 择优 生长 的金 刚 石晶粒在 长大过程 中 , ( 10 0) 面方 向生 长 发 育较好 , 晶体缺 陷较 少 , 而 晶粒 四周 是 以 ( 11 1) 面长大为 主 , 但在 面 长大 过 程 中通 常 会产 生很 多孪 晶 . 如 果 进 一 步 控 制 沉 积 条 件 , 以 获 得 较 适 中 的 形 核 率 , 并 抑 制 晶 粒 四 周 ( 1 1 1) 面的长大 , 将 会获 得更 好 的 ( 10 ) 择优生 长的金 刚石薄膜 . 3 结 论 ( l ) 在金 刚石薄 膜低温 沉积 中氧起着 很强 的刻蚀 非 金 刚 石相 、 改 善金 刚石 晶 粒 形 貌 的 作用 . ( 2) 金 刚石 晶粒 长大过 程 中 ( 100) 面方 向长 大 时产 生 的缺 陷 较少 , 而 ( 1 1 1) 面方 向 长大 时产生 密度很 高 的微孪 晶缺 陷 . 参 考 文 献 R a Vt K V , et ia . , 11祀 N 切cl ae ito n a l ld C 哪扭七 a n d F il l 签 S ynt hes 左对 by hte 印几山璐ito n 2 K o 加s hi K , M o 印 bo lo gy of D 血m o dn R已 , l男〕 , 5 ( 11) : F i】 2356 n 拐 予戈腼q 二 . J M a te r R 已 , l男〕 , 5 ( 11) : 2356 iNs ih m uJ 甩 K , K滋认么 et y , H o ir uC hi T . S yn th 路 15 o f D i a n 1O nds b y U se o f M i cor 似ve 几as 刀 l a 曰颐画h 坛户勿冈帅。 币画石 ~ 丫址归留吧州比摊. 物城泊由由面凌已洲仙此「珊争 . 州与` . , R 洲毋i孤邓 B 鱿芡滚拓7 3 K o 加 s ih K , N is hi m 切ar K , M l声 at K , K 让汀以即I K , Na ka ue A . ( n o) 一 O 丙e l l edt D ~ nd 川n 艺 S yn th 留i左月 by M lcor 叭召 v e o 公mj 喇 一 Va po r 块户英 iot n . J M a etr R巴 , 19叭〕 , 5 ( H ) : 246 9 4 H a u bn e r R , L xu B . l nf] 玩泊 ce of il 山o om 罗 n co us M i cID 姆ve P】as aln o n D ~ dn M O印ob ol gy . nI t LJ R日月如以 . 任如泪 M a ter , 1987 , 6 : 2 10 5 吕反修 , 杨保雄 , 蒋高松 . M P C v D 低温 沉积金 刚石薄膜及 其特征 . 北京科 技 大学 学报 , l卯2 , 14 (2) :l 68 6 杨保雄 , 蒋高松 , 吕反 修 . 氧在微 波等离子 体辅助 C VD 低 温 沉积 金 刚石薄 膜 中的 作用 . 薄 膜科 学 与 技术 , 1卯2 , 5( 3) : 24 7 人ng 比 J C , et al . T 俪n n i n g a n d F a eC ti n g in E ar ly S t a笋 of D i a n 1 0 dn G or wt h by ( 》 er 川ca 1 Va op r eD P o s iit o n . J M a ter R巴 , l卯2 , 7 ( 1 1) : 3田 l