各散射质点所产生的散射光波就有相互干涉,这种内干涉现象是研究大分子尺寸的 基础。高分子链各链段所发射的散射光波有干涉作用,这就是高分子链散射光的内 干涉现象,见图3-1。 关于光散射,人们提出了升落理论。这个理论认为:光散射现象是由于分子热 J所造成的介质折光指数或介电常数的局部升落所引起的。将单位体积散射介质 (介电常数为e)分成N个小体积单元,每个单元的体积大大小于入射光在介质里 波长的三次方,即 △ 43 N 但是小体积单元,仍然是足够大的,其中存在的分子数目满足作统计计算的要求 由于介质内折光指数或介电常数的局部升落,介 电常数应是E+AE。假如,各小体积单元内的局部升 落互不相关,在距离散射质点r,与入射光方向成θ角 处的散射光强为(见图3-2) 0)=△E2(△)2N·l 1+c0s20 (1) 图3-2小体积单元散射 光强的示意图 上式中λo为入射光波长;L为入射光的光强;△E2是 介电常数增量的平方值:△V是小体积单元体积;N为小体积单元数目 经过一系列推导(较为繁琐,从略),可得光散射计算的基本公式 1+cos0 KC 8z2h2:2O sin2x+…|+2AC--(2) 2sin e Re 4n22(O 式中K=N对/(N为阿佛加德罗常数,n为溶液折光指数,C为溶质浓 度),R为瑞利比,0为散射角,h2为均方末端距,A2第二维利系数。 具有多分散体系的高分子溶液的光散射,在极限情况下(即0→0及C→0)可 写成以下两种形式: 1+cos- 0 Kc 2AC 2sin0 R 1+cos0 KC 8丌2 R M92各散射质点所产生的散射光波就有相互干涉，这种内干涉现象是研究大分子尺寸的 基础。高分子链各链段所发射的散射光波有干涉作用，这就是高分子链散射光的内 干涉现象，见图 3-1。 关于光散射，人们提出了升落理论。这个理论认为：光散射现象是由于分子热 运动所造成的介质折光指数或介电常数的局部升落所引起的。将单位体积散射介质 （介电常数为ε）分成 N 个小体积单元，每个单元的体积大大小于入射光在介质里 波长的三次方，即 3 0 1 V N  =  但是小体积单元，仍然是足够大的，其中存在的分子数目满足作统计计算的要求。 由于介质内折光指数或介电常数的局部升落，介 电常数应是   + 。假如，各小体积单元内的局部升 落互不相关，在距离散射质点 r，与入射光方向成θ角 处的散射光强为（见图 3-2） 0 2 2 _____ 2 2 4 2 1 cos ( , ) ( ) 2 i I r V N I r        + =         （1） 上式中λ0 为入射光波长；Ii 为入射光的光强； _____ 2  是 介电常数增量的平方值； V 是小体积单元体积；N 为小体积单元数目。 经过一系列推导（较为繁琐，从略），可得光散射计算的基本公式： ___ 2 2 2 2 2 2 1 cos 1 8 1 sin 2 2sin 9 2 KC h A C R M         +    = + +  +       ---------（2） 式中 2 2 2 4 0 4 n K n N C      =      （ N 为阿佛加德罗常数，n 为溶液折光指数，C 为溶质浓 度）， R 为瑞利比，θ为散射角， ___ 2 h 为均方末端距，A2 第二维利系数。 具有多分散体系的高分子溶液的光散射，在极限情况下（即θ→0 及 C→0）可 写成以下两种形式： 2 2 0 1 cos 1 2 2sin w KC A C R M     →   +    = +   --------------------------（3） 2 2 ___ 2 2 2 0 1 cos 1 8 1 sin 2sin 9 2 C w Z KC h R M       →   +        = +             ---------------（4） 图 3-2