第七章气相沉积技术 ③ S&三 CH口口L口 F MATER1 ALS SCIENGE& ENGINEERING 72.4CVD的特点及应用 、CVD的特点 CvD与其他涂层方法相比,具有如下特点: 业(1)设备简单,操作维护方便,灵活性强,既可 制造金属膜、非金属膜,又可按要求制造多种成分 的合金、陶瓷和化合物镀层。通过对多种原料气体 的流量调节,能够在相当大的范围内控制产物的组 分,从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。 与(2)可在常压或低真空状态下工作,镀膜的绕 射性好,形状复杂的工件或工件中的深孔、细孔都 程 学 能均匀镀膜。 况11 7.2.4 CVD的特点及应用 一、CVD的特点 CVD与其他涂层方法相比，具有如下特点： （1）设备简单，操作维护方便，灵活性强，既可 制造金属膜、非金属膜，又可按要求制造多种成分 的合金、陶瓷和化合物镀层。通过对多种原料气体 的流量调节，能够在相当大的范围内控制产物的组 分，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。 （2）可在常压或低真空状态下工作，镀膜的绕 射性好，形状复杂的工件或工件中的深孔、细孔都 能均匀镀膜。 第七章 气相沉积技术