膜光学—蒸发工艺简介 初真空低真空高真空超高真空 真空度Pa>103 103-10-110-1-10-6<10-6 平均自由 <10-4 104-5 程(cm) >10 1.以气体 1.以气体 分子与器 气流特点分子间的过渡区域壁的碰撞 碰撞为主 为主 粘滞流 2分子流 平均吸 附时间气体分子以空间飞行为主 以吸附停 留为主 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 初真空 低真空 高真空 超高真空 真空度Pa >103 103 -10-1 10-1 -10-6 <10-6 平均自由 程（cm) <10-4 10-4 -5 5-105 >105 气流特点 1.以气体 分子间的 碰撞为主 2.粘滞流 过渡区域 1.以气体 分子与器 壁的碰撞 为主 2.分子流 平均吸 附时间 气体分子以空间飞行为主 以吸附停 留为主