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长春理工大学:《薄膜光学》课程教学资源(PPT课件讲稿)第十讲 光学薄膜制备工艺

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一、基片 二、成膜工艺 三、性能检测
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膜光壘薄膜制鲁工艺简介 光学薄膜制备工艺 基片 口成膜工艺 口性能检测 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——薄膜制备工艺简介 光学薄膜制备工艺 ❑基片 ❑ 成膜工艺 ❑ 性能检测

膜光学—蒸发工艺简介 基片的种类: 基片的清洗: 玻璃、陶瓷 洗涤剂、化学药 金属 品、超声波清洗、 离子轰击、烘烤 晶体 清洗、蒸汽清洗、 塑料 紫外线和臭氧等 清洗方法 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所

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膜光学—蒸发工艺简介 成膜工艺 化学方法 物理方法 化学气相沉积 真空蒸镀 电镀 离子镀 电解 溅射 阳极氧化 分子束外延 等等 等等 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所

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高真空镀膜机 1.真空系统 2蒸发系统 3控制系统 4辅助系统

高真空 镀膜机 • 1.真空系统 • 2蒸发系统 • 3控制系统 • 4辅助系统

膜光学—蒸发工艺简介 真空系统 现代的光学薄膜制备,无论是PVD还是 CVD都是在真空下获得的。根据: Pv RT P-压强、V体积、T绝对温度、M分子量 m-质量、R气体普适常数(8.31x1023mol) n=72×102个米 大气下n=3x1019个/厘 P=1.33x104n=32x1010个/厘米3 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 真空系统 现代的光学薄膜制备,无论是PVD还是 CVD都是在真空下获得的。根据: RT M m PV = P-压强、V-体积、T-绝对温度、M-分子量、 m-质量、R-气体普适常数(8.31x1023/mol) ( ) 22 3 7.2 10 个/米 T P n =  大气下n=3x1019个/厘米3 , P=1.33x10-4 ,n=3.2x1010个/厘米3

膜光学—蒸发工艺简介 真空度的表示 1Pa=IN/m2 I Torr=133.3Pa l(atm)标准大气压=760Tor MmhG=1.00000014Torr 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 真空度的表示 1Pa=1N/m2 1Torr=133.3Pa 1(atm)标准大气压=760Torr 1mmHg=1.00000014Torr

膜光学—蒸发工艺简介 初真空低真空高真空超高真空 真空度Pa>103 103-10-110-1-10-610 1.以气体 1.以气体 分子与器 气流特点分子间的过渡区域壁的碰撞 碰撞为主 为主 粘滞流 2分子流 平均吸 附时间气体分子以空间飞行为主 以吸附停 留为主 中国科学碗长春光学精密机橄与物理硏究所

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 初真空 低真空 高真空 超高真空 真空度Pa >103 103 -10-1 10-1 -10-6 105 气流特点 1.以气体 分子间的 碰撞为主 2.粘滞流 过渡区域 1.以气体 分子与器 壁的碰撞 为主 2.分子流 平均吸 附时间 气体分子以空间飞行为主 以吸附停 留为主

镀膜机真空系统 圖2: 1.蒸發室 2.放氣閥 3.電離規 4.熟偶規 5.高空閥 10 6.水冾檔板和液氮冾阱 7.低空閥 8.充氣閥 12 9.凸腔擴散泵 11 10.低黄空管道 11.預空閥 12截止放氣閥 13.水冷阱 ◎ 14.機械泵

镀膜机真空系统

膜光学—蒸发工艺简介 真空泵抽气原理及工作范围 泵名 原理 工作范围Torr 102110210-410610810-1010-12 机械泵 分子泵机械里压缩排除气体 罗茨泵 扩散泵靠蒸汽射流携带排除 气体 溅射离子泵靠溅射或升华形成吸 钛升华泵 吸附排除气体 吸附泵利用低温表面对气 冷凝泵体进行物理吸附排气 中国科学院长春光学精密机橄与物理硏究所

中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 薄 膜 光 学 ——蒸发工艺简介 泵名 原理 工作范围 Torr 102 1 10-2 10-4 10-6 10-8 10-10 10-12 机械泵 分子泵 罗茨泵 机械里压缩排除气体 扩散泵 靠蒸汽射流携带排除 气体 溅射离子泵 钛升华泵 靠溅射或升华形成吸 气、吸附排除气体 吸附泵 冷凝泵 利用低温表面对 气 体进行物理吸附排气 真空泵抽气原理及工作范围

机械泵原理图 图4旋片机械系的结构 1进气管2进气口3有害空间4,旋片 5弹铃6转子7.定子8排气口 9排气瓣阀10,油11,出气口 图1-5旋片机械泵的四个典型的工作位置

机械泵原理图

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