111·试样断口表面分析结果与222试样相比有明显不同，从俄歇电子能谱一峰高比 可以得到如下变化规律，如图13所示。 OO/N ●A/N 1. C/NI oS/Ni OTi/Ni ●Nb/Ni ON/NI 1.0 0.5 005.7017.1028.5039.9051.9g Sputtcr time,min 图13111#试样断口俄歌能谐酸射时间一蜂高比出线 (1)碳峰开始很高，后急剧下降，约20min后趋于平缀，接近基体平均成分。在 5min以前Ti,Nb等元素并没有峰值出现，故可以认为C峰开始高是表面被C02,Co以 及CH4等污染所致。 (2)氧峰开始很高，后很快下降，约5mn后达到一相当高的水平，并保持不变 (直到15mn)随后又很快下降。这一变化规律说明表面氧高为吸附污染所致，接着出 现氧峰平台，与氧峰相对应表面出现高的Cr峰与Cr峰的平台，而Al,T比基体平均成分 略贫些。 （8)从222#和111*试样断口氧剖面比较可知111试样的0峰平台较222试样的第 一个O峰为宽，这是由于y'相周围贫A1,T区域易氧化的缘故。 111试样断口表面结构模型示意于图14。除表面被C02,C0,CH,吸附严重污染以 :i或Ab rption Oxide filmp ox.con surrounding '小a50 D.ice Ditfu5 ion oxy张cn 图14111#试样断面结构示：顺图 外C蜂与O蜂相对应存在，而iA1,Ti蜂相应降低，这可能是在颗粒边界或品界上，由于 形成大块y'相，使其周围基体纺A1,Ti,这些贫Al,T区域是与颗粒边界或晶界相连 接。正如R,E,Waters3指出大块y'相周围存在贫Al,Ti区，易发生内氧化腐蚀。粉末 中残留的氧在热等静压过程中就易优先在这些区域发生氧化或在热处理过程中吸收氧， 而使y'相周围区域生成氧化膜(NiCrO:)。在淬火过程中，由于热应力致使外表面这 94试样断口 表面分析结果与 试样相比有明显不 同 ， 从俄歇电子能谱一峰高比 可以 得到 如下 变化规律 ， 如图 所示 。 卜 人 应 卜 血 玉 已卜自只 卜 － 一 舀 气 孟 心 挂鉴 ﹄泰︺ 舀 图 试样断 口 俄歇能 谱溅射时间一 峰 高比 曲线 碳峰 开始很 高 ， 后急剧下 降 ， 约 后趋于 平缓 ， 接近 基体平均成 分 。 在 以前 ， 等元素并没有峰值 出现 ， 故可以认 为 峰开始 高是表面被 ，， 以 及 等污染所致 。 氧峰开 始很 高 ， 后很快下 降 ， 约 后达到一相 当高的水平 ， 并保 持 不 变 直到 随后又很快下降 。 这一变化规律说明 表面氧高为吸附 污染所致 ， 接着 出 现氧峰平台 ， 与氧峰相对应表面 出现高的 峰与 峰的平 台 ， 而 ， 比 基体平均成分 略贫些 。 从 和 试样断 口 氧剖面比 较可知 禅试样的。 峰平 台较 ，试样的 第 一个。 峰为宽 ， 这 是 由于，尹 相周围 贫 ， 区域 易氧化的缘故 。 试样断 口表面结构 模型示意于 图 。 除 表面 被 ， ， ‘ 吸附 严重污 染以 砂 二 ’ · … ‘ 图 一 ’ 川 试徉断 面 结构示 怠 图 外 峰 与。 峰 相对 应 存在 ， 而 ， 峰 相应 降低 ， 这 可能 是在 颗粒边 界或 晶界上 ， 由于 形 成大块 尸 相 ， 使 其周 围基 体 贫 ， ， 这 些 贫 ， 区域是 与颗 粒边 界或 晶 界 相 连 接 。 正 如 。 “ 指 出大块丫‘ 相 周围存在 贫 ， 区 ， 易发生 内氧化腐蚀 。 粉 末 中残 留的氧在热等静压 过 程 中就 易优 先在这些 区域发生 氧化或 在热处 理过程 中吸收氧 ， 而 使 ‘ 相 周 围区域生 成氧 化膜 ‘ 。 在淬火 过程 中 ， 由于 热 应 力致使外表面这