半导体制造常用杂质 受主杂质 半导体 施主杂质 IIA IVA P-Type) (N-Type) 元素 原子序 数 元素 原子序数 元素 原子序数 Boron(b) Carbon(c) 6 Nitrogen(N) 7 Aluminum(Al) 13 Silicon(Si) 14 Phosphorus(P) 15 Gallium(Ga) 31 Germanium 32 Arsenic(As) 33 Indium(In) 49 Tin(Sn) 50 Antimony(sb) 51 表17.1 半导体制造技术 by michael Quirk and Julian Serda 电信学院微电子教研室电信学院 微电子教研室 半导体制造技术 by Michael Quirk and Julian Serda 半导体制造常用杂质 受主杂质 IIIA (P-Type) 半导体 IVA 施主杂质 VA (N-Type) 元素 原子序 数 元素 原子序数 元素 原子序数 Boron (B) 5 Carbon(C) 6 Nitrogen(N) 7 Aluminum(Al) 13 Silicon (Si) 14 Phosphorus (P) 15 Gallium(Ga) 31 Germanium 32 Arsenic (As) 33 Indium(In) 49 Tin(Sn) 50 Antimony(Sb) 51 表 17.1